金属屏蔽结构的制作方法

本发明系关于一种金属屏蔽结构。具体而言，本发明涉及一种具有第一开口及第二开口连通的开槽的金属屏蔽结构。

背景技术：

1、电子产业制备工艺中，为了精准的制作具有预定的电路布置或像素布置等的装置或组件，必须使用具有预定图样的金属屏蔽。例如，自阴极射线管技术演进至液晶显示器技术，再发展出有机发光二极管(oled)技术后，显示装置逐渐变得轻薄，且同时提升了解析度。因此，高分辨率的显示装置逐渐大量运用于现代电子产业领域中。然而，要制备此类高分辨率的显示装置，例如蒸镀制成rgb三原色的像素时，需要具有预定图样的高精度金属屏蔽。承上，在通过母材准备、压膜、曝光、显影、一次蚀刻、二次蚀刻、去膜等程序制备具有预定图样的精密金属屏蔽(fmm,fine metal mask)时，可能会因为金属屏蔽结构设计不佳使得蚀刻不足或过度蚀刻的缺陷的产生。特别是，在预定图样的开口的边缘或端部或转角处，可能会由于化学蚀刻的等向性或蚀刻工艺环境的布置等因素而出现尺寸或形状偏差。因此，设计的预定图样可能无法精确地定义于金属屏蔽上，且可能使得最终生成的金属屏蔽具有缺陷，从而无法运用其精准地制备最终预期的装置或组件。

技术实现思路

1、本发明提供一种金属屏蔽结构，可使得所述金属屏蔽结构的精准性提升。

2、为解决上述问题，根据本实施例提出一种金属屏蔽结构，其包含：板材，具有正面及背面；以及多个开槽，沿着第一方向延伸，且分别包含形成于正面上的第一开口及形成于背面上的第二开口。其中，第一开口与第二开口连通而贯穿板材。其中，第一开口在正面上平行于第一方向的第一纵长小于第二开口在背面上平行于第一方向的第二纵长。第一开口于第一纵长上具有相反的第一端部及第二端部，而第二开口于第二纵长上具有分别对应于第一端部及第二端部的第三端部及第四端部。第一端部与第三端部投影于正面上平行于第一方向的第一间距小于等于200um。第二开口在背面上垂直于第一方向最大的宽度为扩张宽度，第二开口的第三端部在背面上垂直于第一方向的宽度为第二端部宽度，且第二端部宽度小于或等于扩张宽度。

3、本发明的优点在于，

4、依据本发明各实施例所提供的金属屏蔽结构，可使得金属屏蔽结构的精准性提升。特别是，金属屏蔽结构的预定图样的开口边缘或端部的型态的精确性可提升。因此，在利用金属屏蔽结构时，可确保待制成或加工的预定图样的精确性。承上，根据本发明的各实施例所提供的金属屏蔽结构，于金属屏蔽结构本体板材的相反平面所进行的两次蚀刻生成的开口可如预期般连通，且可减少一次蚀刻及二次蚀刻相互影响所可能产生的过度蚀刻或蚀刻不足的缺陷。例如但不限于，设计不佳使得工艺完成后所导致的预定图样的开口的变形或尺寸异常。特别是端部及边缘可能出现的过宽或不完全贯通的缺陷。因此，可确保一次蚀刻开口及二次蚀刻开口整体及其连结处皆具有预期的样态，且在制备装置或组件时可依此来生成预期的电路布置或像素布置等。

技术特征：

1.一种金属屏蔽结构，其特征在于，包含：

2.如权利要求1所述的金属屏蔽结构，其特征在于，所述第一开口在所述正面上垂直于所述第一方向最大的宽度为一目标宽度，且所述目标宽度小于等于100um。

3.如权利要求2所述的金属屏蔽结构，其特征在于，所述扩张宽度大于所述目标宽度，且小于等于五倍的所述目标宽度。

4.如权利要求2所述的金属屏蔽结构，其特征在于，所述第一开口的所述第一纵长大于等于三倍的所述第一开口的所述目标宽度。

5.如权利要求1所述的金属屏蔽结构，其特征在于，所述些开槽垂直于所述正面或所述背面的深度为一开槽深度，且所述开槽深度介于15～100um之间。

6.如权利要求1所述的金属屏蔽结构，其特征在于，所述第二开口具有所述扩张宽度的区块距离所述第三端部最近的一第二间距小于等于1mm。

7.如权利要求6所述的金属屏蔽结构，其特征在于，所述第二间距等于所述第一间距。

8.如权利要求6所述的金属屏蔽结构，其特征在于，所述第二间距等于零。

9.如权利要求1所述的金属屏蔽结构，其特征在于，所述第一开口形成为具有长轴上的所述第一纵长大于短轴上的宽度的封闭几何图形，且所述第二开口形成为具有长轴上的所述第二纵长大于短轴上的宽度的封闭几何图形。

技术总结
本发明提出一种金属屏蔽结构，其包含：板材及形成于其上的开槽。开槽沿着第一方向延伸且各别包含板材的正面上的第一开口及板材的背面上的第二开口。第一开口与第二开口连通而贯穿板材。第一开口的第一纵长小于第二开口的第二纵长。第一开口具有相反的第一端部及第二端部，且第二开口具有对应的第三端部及第四端部。第一端部与第三端部投影于正面上平行于第一方向的第一间距小于等于200um。第二开口垂直于第一方向最大的宽度为扩张宽度，第二开口的第三端部垂直于第一方向的宽度为第二端部宽度，且第二端部宽度小于或等于扩张宽度。该金属屏蔽结构的精准性得以提升。

技术研发人员：方冠杰,李清锋
受保护的技术使用者：达运精密工业股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/13