本公开涉及等离子体源领域,特别涉及一种微波传导装置、微波源、离子发生装置以及真空处理系统。
背景技术:
1、等离子体源是一种用于产生等离子体的装置,通过将电磁能量馈入气体的电子,电子获能后加速运动并且与工作气体碰撞,将能量转移到工作气体从而导致气体发生电离,激发等一系列反应,最终获得等离子体。等离子体源在工业生产以及科学研究中有着广泛的用途。例如:在材料应用中,等离子体源可以用在表面改性,离子注入,电离反应气体等;在半导体的生产过程中,等离子体源可以辅助薄膜沉积,刻蚀,表面清洗等;在光学中,等离子体源也是一种重要的光源。
2、传统的等离子体源根据能量馈入的方式可以分为容性和感性等离子体源。而在气体击穿的过程中,由于等离子电学特性会随着击穿的进行而产生变化,导致等离子体源无法很好地将能量馈入等离子体中。为此,往往需要为等离子体源配备相应的匹配电路以实时的匹配阻抗。这就导致传统的等离子体源往往占用空间大,不利于集成且无法提供大面积的等离子体,这对于大面积的工业生产是极为不利的。
技术实现思路
1、本公开提供了一种微波传导装置,包括:微波传输器,包括:谐振腔;天线,设置在谐振腔内,且与微波源电连接;其中,谐振腔用于与天线耦合,对微波源产生的微波进行传输,微波馈入结构,设置在微波传输器上,用于馈入微波。
2、在一些实施例中,谐振腔,包括:外导体,与天线电连接;内导体,设置在外导体内,且与外导体电连接。
3、在一些实施例中,微波传导装置还包括:冷却装置,设置在内导体内,用于冷却。
4、在一些实施例中,冷却装置包括:冷却流体通路,设置在内导体内;冷却流体入口,与冷却流体通路连通,用于输入冷却流体;冷却流体出口,与冷却流体通路连通,用于排出冷却流体。
5、在一些实施例中,微波馈入结构包裹至少部分微波传输器,用于密封谐振腔。
6、在一些实施例中,微波馈入结构呈圆台状或半球状。
7、在一些实施例中,微波馈入结构包括陶瓷微波馈入结构。
8、本公开提供了一种微波源,包括:微波发生器,用于发生微波;本公开的一些实施例中任意一项的微波传导装置,微波传导装置与微波发生器耦合,用于传导微波。
9、本公开提供了一种离子发生装置,包括:气体源,用于提供工作气体;如本公开的一些实施例中的微波源,用于产生微波与工作气体耦合,以产生等离子体。
10、本公开提供了一种真空处理系统,包括:真空腔;样品架,设置在真空腔内,用于承载样品;如本公开的一些实施例中的离子发生装置,设置在真空腔上,用于向样品发射等离子体。
1.一种微波传导装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的微波传导装置,其特征在于,
3.根据权利要求2所述的微波传导装置,其特征在于,还包括:
4.根据权利要求3所述的微波传导装置,其特征在于,所述冷却装置包括:
5.根据权利要求1所述的微波传导装置,其特征在于,所述微波馈入结构包裹至少部分微波传输器,用于密封所述谐振腔。
6.根据权利要求5所述的微波传导装置,其特征在于,所述微波馈入结构呈圆台状或半球状。
7.根据权利要求5所述的微波传导装置,其特征在于,所述微波馈入结构包括陶瓷微波馈入结构。
8.一种微波源,其特征在于,包括:
9.一种离子发生装置,其特征在于,包括:
10.一种真空处理系统,其特征在于,包括: