显示装置和制造该显示装置的方法与流程

公开涉及一种显示装置和制造该显示装置的方法。

背景技术：

1、随着信息社会已经发展，用于显示图像的显示装置被广泛用于各种领域。例如，显示装置已经应用于各种电子装置(诸如智能电话、数码相机、笔记本计算机、导航系统和智能电视)。这里，显示装置可以是平板显示装置(诸如液晶显示(lcd)装置、场发射显示(fed)装置或有机发光二极管(oled)显示装置)。在这种平板显示装置之中，发光显示装置包括发光元件，该发光元件能够在不使用用于向显示面板提供光的背光单元的情况下使显示装置的像素发射光以显示图像。

技术实现思路

1、公开的实施例提供了一种能够防止在制造期间可能发生的发光元件的像素电极特性改变的显示装置以及制造该显示装置的方法。

2、根据公开的实施例，显示装置包括：第一像素电极和第二像素电极，设置在基底上以彼此分隔开；无机绝缘层，设置在基底上以部分地位于第一像素电极和第二像素电极上；堤结构，设置在无机绝缘层上，其中，第一开口和第二开口被限定为穿过堤结构以分别与第一像素电极和第二像素电极叠置；辅助层，在第一开口和第二开口中设置在第一像素电极和第二像素电极上；第一发光层和第二发光层，分别在第一像素电极和第二像素电极上设置在辅助层上；第一共电极和第二共电极，分别设置在第一发光层和第二发光层上；以及辅助层图案，在第一开口和第二开口周围设置在堤结构上，其中，堤结构包括第一堤层和第二堤层，第二堤层设置在第一堤层上并且包括与第一堤层不同的金属材料，并且第二堤层包括尖端，尖端从第一堤层的限定第一开口和第二开口的侧表面突出。

3、在实施例中，辅助层和辅助层图案中的每个可以包括氧化钨(wox)。

4、在实施例中，辅助层和辅助层图案中的每个可以包括氧化钽(taox)。

5、在实施例中，辅助层和辅助层图案中的每个可以具有在约5重量百分比(wt％)至约12wt％的范围内的taox含量。

6、在实施例中，辅助层和辅助层图案中的每个可以不包括氧化铟锡(ito)。

7、在实施例中，辅助层可以与第一像素电极和第二像素电极的顶表面接触。

8、在实施例中，辅助层可以至少部分地设置在无机绝缘层上，并且部分地与第一堤层的侧表面接触。

9、在实施例中，辅助层图案可以设置为围绕第二堤层的尖端并且至少部分地与第一堤层的侧表面接触。

10、在实施例中，第一堤层可以包括铝(al)，并且第二堤层可以包括钛(ti)。

11、在实施例中，第一共电极和第二共电极可以与第一堤层的侧表面直接接触。

12、在实施例中，显示装置还可以包括：第一有机图案，设置在辅助层图案上以围绕第一开口并且包括与第一发光层相同的材料；第一电极图案，设置在第一有机图案上并且包括与第一共电极相同的材料；第二有机图案，设置在辅助层图案上以围绕第二开口并且包括与第二发光层相同的材料；以及第二电极图案，设置在第二有机图案上并且包括与第二共电极相同的材料。

13、在实施例中，显示装置还可以包括：第一无机层，设置在堤结构的限定第一开口的侧表面上并且在第一共电极和第一电极图案上；以及第二无机层，设置在堤结构的限定第二开口的侧表面上并且在第二共电极和第二电极图案上，其中，第一无机层和第二无机层可以彼此分隔开，并且第二堤层的部分可以不与第一无机层和第二无机层叠置。

14、在实施例中，显示装置还可以包括设置在堤结构上的薄膜封装层，其中，薄膜封装层可以包括第一封装层、设置在第一封装层上的第二封装层以及设置在第二封装层上的第三封装层。

15、在实施例中，显示装置还可以包括：阻光层，设置在第三封装层上，其中，多个开口孔可以被限定为穿过阻光层以与第一开口和第二开口叠置；以及第一滤色器和第二滤色器，设置在阻光层上并且分别与第一开口和第二开口叠置。

16、根据公开的实施例，制造显示装置的方法包括以下步骤：在基底上形成彼此分隔开的多个像素电极、设置在像素电极上的无机绝缘层以及设置在无机绝缘层上的第一堤材料层和第二堤材料层；穿过无机绝缘层、第一堤材料层和第二堤材料层形成第一孔，第一孔与像素电极中的一个叠置并且暴露像素电极之中的对应的像素电极的顶表面的部分；通过湿蚀刻限定第一孔的侧表面，在第二堤材料层中形成从第一堤材料层的侧表面突出的尖端；在第二堤材料层上并且在第一开口中的像素电极上形成辅助层，第一开口通过湿蚀刻限定第一孔的侧表面的步骤而获得；在辅助层上并且在第一开口中形成发光层和共电极，并且在辅助层上并且在第二堤材料层上形成无机层；以及去除无机层的在第二堤材料层上的一部分。

17、在实施例中，辅助层可以包括氧化钨(wox)和氧化钽(taox)。

18、在实施例中，辅助层可以具有在约5wt％至约12wt％的范围内的taox含量。

19、在实施例中，辅助层可以在第一开口中与对应的像素电极的顶表面直接接触，发光层可以直接设置在辅助层上并且在第一开口中，并且共电极可以与第一堤材料层的侧表面直接接触。

20、在实施例中，第一堤材料层可以包括铝(al)，并且第二堤材料层可以包括钛(ti)。

21、在实施例中，形成发光层和共电极的步骤可以包括在第二堤材料层上形成有机图案和电极图案，有机图案设置在辅助层上并且包括与发光层相同的材料，电极图案包括与共电极相同的材料，并且无机层可以设置在电极图案上。

22、根据公开的实施例，由于显示装置包括在像素电极上的辅助层，该辅助层补偿了可能由在蚀刻期间对像素电极的损坏引起的像素电极的电性质改变，使得可以在不设置用于防止对像素电极的损坏的牺牲层的情况下保持发光元件的特性。

技术特征：

1.一种显示装置，所述显示装置包括：

2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述辅助层和所述辅助层图案中的每个包括氧化钨。

3.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述辅助层和所述辅助层图案中的每个包括氧化钽。

4.根据权利要求3所述的显示装置，其中，所述辅助层和所述辅助层图案中的每个具有在5wt％至12wt％的范围内的氧化钽含量。

5.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述辅助层和所述辅助层图案中的每个不包括氧化铟锡。

6.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述辅助层与所述第一像素电极和所述第二像素电极的顶表面接触。

7.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述辅助层至少部分地设置在所述无机绝缘层上，并且部分地与所述第一堤层的所述侧表面接触。

8.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述辅助层图案设置为围绕所述第二堤层的所述尖端并且至少部分地与所述第一堤层的所述侧表面接触。

9.根据权利要求1所述的显示装置，其中，

10.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第一共电极和所述第二共电极与所述第一堤层的所述侧表面直接接触。

11.根据权利要求1所述的显示装置，所述显示装置还包括：

12.根据权利要求11所述的显示装置，所述显示装置还包括：

13.根据权利要求1所述的显示装置，所述显示装置还包括：

14.根据权利要求13所述的显示装置，所述显示装置还包括：

15.一种制造显示装置的方法，所述方法包括以下步骤：

16.根据权利要求15所述的方法，其中，所述辅助层包括氧化钨和氧化钽。

17.根据权利要求16所述的方法，其中，所述辅助层具有在5wt％至12wt％的范围内的氧化钽含量。

18.根据权利要求15所述的方法，其中，

19.根据权利要求15所述的方法，其中，

20.根据权利要求15所述的方法，其中，

技术总结
公开了一种显示装置和制造该显示装置的方法。该显示装置包括：第一像素电极和第二像素电极，在基底上彼此分开；无机绝缘层，部分地位于第一像素电极和第二像素电极上；堤结构，在无机绝缘层上并且第一开口和第二开口被限定为穿过其以与第一像素电极和第二像素电极叠置；辅助层，在第一开口和第二开口中在第一像素电极和第二像素电极上；第一发光层和第二发光层，在第一像素电极和第二像素电极上在辅助层上；第一共电极和第二共电极，在第一发光层和第二发光层上；以及辅助层图案，在第一开口和第二开口周围在堤结构上。堤结构包括包含不同金属材料的第一堤层和第二堤层，第二堤层包括从第一堤层的限定第一开口和第二开口的侧表面突出的尖端。

技术研发人员：申铉亿,权圣周,李周炫
受保护的技术使用者：三星显示有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/4/17