基于o-DCB与o-Ma溶液共混的薄膜及其制备方法

文档序号:36862645发布日期:2024-02-02 20:45阅读:18来源:国知局
基于o-DCB与o-Ma溶液共混的薄膜及其制备方法

本发明属于半导体器件,具体涉及基于o-dcb与o-ma溶液共混的薄膜,还涉及基于o-dcb与o-ma溶液共混的薄膜的制备方法。


背景技术:

1、有机半导体属于有机材料领域的应用,有机半导体材料在可折叠性能、加工性能、结构修饰等方面优于传统半导体材料,近年来,伴随电子产品向轻薄化、大面积、柔性化发展,有机半导体材料成为半导体材料领域研究重点方向之一。

2、目前来看,受技术限制,有机半导体材料仍存在诸多问题有待探究,如量子阱等量子效应问题、能带理论适用性等,制得的有机半导体器件迁移率较低,经过一系列探索研究,器件性能有所提升。要想进一步提升性能,就要从制备材料和工艺上进行改善。


技术实现思路

1、本发明的目的是提供基于o-dcb与o-ma溶液共混的薄膜,具有较高的电荷传输效率。

2、本发明的另一目的是提供基于o-dcb与o-ma溶液共混的薄膜的制备方法,解决了现有技术中存在的共轭聚合物p3ht薄膜多晶态,电荷传输效率较低问题。

3、本发明所采用的技术方案是,基于o-dcb与o-ma溶液共混制备ofet薄膜的方法,具体按照以下步骤实施:

4、步骤1、采用n型晶圆片,将晶圆片进行切割为大小均匀的样片;

5、步骤2、采用丙酮-无水乙醇-去离子水依次对样片进行清洗;

6、步骤3、以p3ht为溶质,1,2-二氯苯为溶剂配置有源层溶液;

7、步骤4、采用有源层溶液对样片进行匀胶,并干燥处理,得到ofet薄膜。

8、本发明的特点还在于:

9、步骤1具体过程为:

10、步骤1.1、采用尺寸为4英寸、电阻率为0.009ω·cm、取向<100>的n型晶圆片;

11、步骤1.2、对晶圆片采用激光切割为2cm×2cm样片,并将切割电流设置为12a。

12、步骤2具体过程为:用丙酮-无水乙醇-去离子水超声清洗10min,再将清洗好的样片放在无尘纸上吹干。

13、步骤3具体过程为:以p3ht为溶质,1,2-二氯苯为溶剂配置浓度为10mg/ml的有源层溶液,将有源层溶液倒入称量瓶后,瓶口朝上放入超声机中进行超声溶解,温度设置为25℃~35℃,时间设置为28min~30min,整个过程都处于密封状态。

14、步骤4具体过程为:

15、步骤4.1、夹取样片放在匀胶机上,利用注射器注满溶液,正对样片中心位置,快速连续的将有源层溶液滴在样片上,并进行匀胶;

16、步骤4.2、将匀胶后的样片放在无尘纸上,放入真空干燥箱进行退火,设置压强130pa~135pa以下,温度115℃~120℃,时间50min~1h。

17、基于o-dcb与o-ma溶液共混制备ofet薄膜,基于o-dcb与o-ma溶液共混制备ofet薄膜的方法,薄膜厚度为30nm~50nm,薄膜的电荷传输效率:0.0059cm2/vs~0.0372cm2/vs。

18、本发明有益效果是:

19、通过二元溶剂共混的最佳溶剂种类和共混比例,提高了电荷传输效率;采用本发明上述共混条件下的最佳退火温度,退火温度为110℃时,制得的薄膜更为完整连续,薄膜分子有序度也最高;用偏心旋涂工艺制备器件薄膜,改善ofet薄膜的链间堆积更紧密,同时降低阈值电压和器件功耗,为制备高迁移率ofet薄膜提供可行的解决方案。



技术特征:

1.基于o-dcb与o-ma溶液共混制备ofet薄膜的方法,其特征在于,具体按照以下步骤实施:

2.根据权利要求1所述基于o-dcb与o-ma溶液共混制备ofet薄膜的方法,其特征在于,步骤1具体过程为:

3.根据权利要求1所述基于o-dcb与o-ma溶液共混制备ofet薄膜的方法,其特征在于,步骤2具体过程为:用丙酮-无水乙醇-去离子水超声清洗10min,再将清洗好的样片放在无尘纸上吹干。

4.根据权利要求1所述基于o-dcb与o-ma溶液共混制备ofet薄膜的方法,其特征在于,步骤3具体过程为:以p3ht为溶质,1,2-二氯苯为溶剂配置浓度为10mg/ml的有源层溶液,将有源层溶液倒入称量瓶后,瓶口朝上放入超声机中进行超声溶解,温度设置为25℃~35℃,时间设置为28min~30min,整个过程都处于密封状态。

5.根据权利要求1所述基于o-dcb与o-ma溶液共混制备ofet薄膜的方法,其特征在于,步骤4具体过程为:

6.基于o-dcb与o-ma溶液共混制备ofet薄膜,采用权利要求1~5任意一项所述的基于o-dcb与o-ma溶液共混制备ofet薄膜的方法,其特征在于,所述薄膜厚度为30nm~50nm,所述薄膜的电荷传输效率:0.0059cm2/vs~0.0372cm2/vs。


技术总结
本发明公开了基于o‑DCB与o‑Ma溶液共混制备OFET薄膜的方法,采用N型晶圆片,将晶圆片进行切割为大小均匀的样片;采用丙酮‑无水乙醇‑去离子水依次对样片进行清洗;以P3HT为溶质,1,2‑二氯苯为溶剂配置有源层溶液;采用有源层溶液对样片进行匀胶,并干燥处理,得到OFET薄膜;采用本发明方法制备的薄膜,厚度为30nm~50nm,所述薄膜的电荷传输效率:0.0059cm<supgt;2</supgt;/Vs~0.0372cm<supgt;2</supgt;/Vs,解决了现有技术中存在的共轭聚合物P3HT薄膜多晶态,电荷传输效率较低问题。

技术研发人员:李世光,赵英博,孙磊,秦可,张晨曦
受保护的技术使用者:西安理工大学
技术研发日:
技术公布日:2024/2/1
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1