本公开属于显示,具体涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。
背景技术:
1、有机电致发光二极管(organic light-emitting diode,oled)是一种利用有机固态半导体作为发光材料的发光器件,由于其具有制备工艺简单、成本低、功耗低、发光亮度高、工作温度适应范围广等优点,因而有着广阔的应用前景。
2、随着对显示画质要求的不断提高,oled显示面板的分辨率也越来越高,与此同时也带来了新的问题,当显示某特性像素的时候,其周边一个或者多个像素也会同时点亮,即像素间串扰(cross-talk)的问题,尤其是当有机电致发光层(el)中使用某些p掺杂或者n掺杂材料时,由于p掺杂或n掺杂材料横向的导电率较高,更容易引起串扰的问题,为了解决串扰问题,相关技术中可以通过将p掺杂或n掺杂材料替换为横向导电率低的材料,但这样的话材料选择范围大大减少,或者会影响oled器件效能,不能满足用户的需求。
技术实现思路
1、本公开旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一,提供了一种显示基板及其制备方法、显示装置。
2、第一方面,本公开实施例提供了一种显示基板,所述显示基板包括:基底、位于所述基底上的像素限定层;所述像素限定层包括:多个像素挡墙和第一凹槽;
3、所述第一凹槽嵌入所述像素挡墙背离所述基底一侧。
4、可选地,所述第一凹槽的数量为一个,所述像素限定层还包括:一个第二凹槽;
5、所述第二凹槽的开口面积小于所述第一凹槽的开口面积,且所述第二凹槽位于所述第一凹槽内。
6、可选地,所述第一凹槽的数量为一个,所述像素限定层还包括:多个第二凹槽;
7、所述第二凹槽的开口面积小于所述第一凹槽的开口面积,且所述第二凹槽位于所述第一凹槽内;多个所述第二凹槽沿着所述第一凹槽的侧壁间隔设置。
8、可选地,所述第一凹槽的数量为一个,所述像素限定层还包括:一个第一凸起;
9、所述第一凸起沿经过中心且平行于所述基底方向的截面面积小于所述第一凹槽的开口面积,且所述第一凸起位于所述第一凹槽内。
10、可选地,所述第一凹槽的数量为多个,多个所述第一凹槽沿着所述像素挡墙背离所述基底一侧间隔设置。
11、可选地,所述显示基板还包括:位于所述像素限定层靠近所述基底一侧的平坦化层;所述平坦化层包括:第三凹槽;所述像素挡墙填充于所述第三凹槽内;
12、所述第三凹槽在所述基底上的正投影与所述第一凹槽在所述基底上的正投影重合。
13、可选地,所述显示基板还包括:位于所述像素限定层靠近所述基底一侧的平坦化层;所述平坦化层包括:第三凹槽和第四凹槽;所述第四凹槽位于所述第三凹槽内;所述像素挡墙填充于所述第三凹槽和所述第四凹槽内;
14、所述第三凹槽在所述基底上的正投影与所述第一凹槽在所述基底上的正投影重合;
15、所述第四凹槽在所述基底上的正投影与所述第二凹槽在所述基底上的正投影重合。
16、可选地,所述显示基板还包括:位于所述像素限定层靠近所述基底一侧的平坦化层;所述平坦化层包括:第三凹槽和第二凸起;所述第二凸起位于所述第三凹槽内;所述像素挡墙填充于所述第三凹槽内;
17、所述第三凹槽在所述基底上的正投影与所述第一凹槽在所述基底上的正投影重合;
18、所述第二凸起在所述基底上的正投影与所述第一凸起在所述基底上的正投影重合。
19、第二方面,本公开实施例提供了一种显示装置,所述显示装置包括如上述任一实施例提供的显示基板。
20、第三方面,本公开实施例提供了一种显示基板的制备方法,所述显示基板的制备方法包括:
21、在基底上形成多个像素挡墙;
22、在所述像素挡墙背离所述基底一侧形成第一凹槽。
1.一种显示基板,其特征在于,所述显示基板包括:基底、位于所述基底上的像素限定层;所述像素限定层包括:多个像素挡墙和第一凹槽;
2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述第一凹槽的数量为一个,所述像素限定层还包括:一个第二凹槽;
3.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述第一凹槽的数量为一个,所述像素限定层还包括:多个第二凹槽;
4.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述第一凹槽的数量为一个,所述像素限定层还包括:一个第一凸起;
5.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述第一凹槽的数量为多个,多个所述第一凹槽沿着所述像素挡墙背离所述基底一侧间隔设置。
6.根据权利要求1或5所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板还包括:位于所述像素限定层靠近所述基底一侧的平坦化层;所述平坦化层包括:第三凹槽;所述像素挡墙填充于所述第三凹槽内;
7.根据权利要求2或3所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板还包括:位于所述像素限定层靠近所述基底一侧的平坦化层;所述平坦化层包括:第三凹槽和第四凹槽;所述第四凹槽位于所述第三凹槽内;所述像素挡墙填充于所述第三凹槽和所述第四凹槽内;
8.根据权利要求4所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板还包括:位于所述像素限定层靠近所述基底一侧的平坦化层;所述平坦化层包括:第三凹槽和第二凸起;所述第二凸起位于所述第三凹槽内;所述像素挡墙填充于所述第三凹槽内;
9.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括如权利要求1至8任一项所述的显示基板。
10.一种显示基板的制备方法,其特征在于,所述显示基板的制备方法包括: