对准装置、成膜装置、对准方法、电子器件的制造方法、程序及存储介质与流程

本发明涉及对准装置、成膜装置、对准方法、电子器件的制造方法、程序及存储介质。

背景技术：

1、在有机el显示装置（有机el显示器）等的制造中，在使用蒸镀用的掩模将蒸镀材料蒸镀在基板上时，进行基板与掩模的对准。在专利文献1中，提出了在使用多个相机对设置于基板或掩模的对准用的标记进行拍摄的情况下，针对无法检测到标记的相机，反复进行检测处理，直至能够检测到标记。

2、在先技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2008-010504号公报

技术实现思路

1、发明要解决的课题

2、然而，在上述以往技术中，在利用任一个相机难以检测到对准用的标记的情况下，对准所需的时间有可能会变长。作为结果，这有可能会导致有机el显示装置的生产率的下降。

3、本发明提供一种抑制基板与掩模的对准的长时间化的技术。

4、用于解决课题的手段

5、作为本发明的一侧面的对准装置使用设置于基板的基板标记及设置于掩模的掩模标记来进行所述基板及所述掩模的对准，其特征在于，所述对准装置具备：多个检测部件，所述多个检测部件检测所述基板标记及所述掩模标记；确定部件，所述确定部件使用所述多个检测部件的检测结果来确定所述基板及所述掩模的相对位置调整中的调整量；以及位置调整部件，所述位置调整部件基于由所述确定部件确定的所述调整量进行所述基板及所述掩模的相对位置调整，所述确定部件即使在利用所述多个检测部件中的一部分的检测部件未检测到所述基板标记或所述掩模标记的情况下，也会基于所述一部分的检测部件以外的检测部件的检测结果来确定所述调整量。

6、发明效果

7、根据本发明，能够抑制基板与掩模的对准的长时间化。

8、本发明的其他特征及优点通过参照了附图的以下说明而变得明确。此外，在附图中，对相同或同样的结构标注相同的附图标记。

技术特征：

1.一种对准装置，所述对准装置使用设置于基板的基板标记及设置于掩模的掩模标记来进行所述基板及所述掩模的对准，其特征在于，所述对准装置具备：

2.根据权利要求1所述的对准装置，其特征在于，

3.根据权利要求1所述的对准装置，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的对准装置，其特征在于，

5.根据权利要求1所述的对准装置，其特征在于，

6.根据权利要求5所述的对准装置，其特征在于，

7.根据权利要求1所述的对准装置，其特征在于，

8. 一种成膜装置，其特征在于，所述成膜装置具备：

9.一种对准方法，所述对准方法使用设置于基板的基板标记及设置于掩模的掩模标记来进行所述基板及所述掩模的对准，其特征在于，所述对准方法包含：

10. 一种电子器件的制造方法，其特征在于，所述电子器件的制造方法包含：

11.一种程序，其特征在于，

12.一种存储介质，其特征在于，

技术总结
对准装置使用设置于基板的基板标记及设置于掩模的掩模标记来进行基板及掩模的对准。多个检测部件检测基板标记及掩模标记。确定部件使用多个检测部件的检测结果来确定基板及掩模的相对位置调整中的调整量。位置调整部件基于由确定部件确定的调整量进行基板及掩模的相对位置调整。确定部件即使在利用多个检测部件中的一部分的检测部件未检测到基板标记或掩模标记的情况下，也会基于一部分的检测部件以外的检测部件的检测结果来确定调整量。

技术研发人员：谷和宪,长沼义人
受保护的技术使用者：佳能特机株式会社
技术研发日：
技术公布日：2025/3/16