显示基板及其制备方法和显示装置与流程

本公开涉及显示，尤其涉及一种显示基板及其制备方法和显示装置。

背景技术：

1、随着人们对屏占比的极致追求，屏幕本身的形态和相机的布置也在迅速地优化，从最初的一半屏占比到notch布局再目前的水滴屏、挖孔屏，新型显示技术层出不穷。其中打孔屏的设计极大地提升了屏占比，满足了消费者对于大屏显示的极致追求。如何避免打孔区域封装失效的问题是显示产品的研发人员关注的课题之一。

2、在本部分中公开的以上信息仅用于对本公开的发明构思的背景的理解，因此，以上信息可包含不构成现有技术的信息。

技术实现思路

1、在一个方面，提供一种显示基板，所述显示基板包括开孔区域、位于所述开孔区域周边的缓冲区域以及位于所述缓冲区域周边的显示区域，所述显示基板包括：

2、衬底基板；

3、驱动电路层，位于所述衬底基板上；

4、发光器件层，位于所述驱动电路层远离所述衬底基板一侧，所述发光器件层包括位于所述驱动电路层远离所述衬底基板一侧的第一电极层，所述第一电极层包括多个第一电极部；

5、像素界定层，位于所述第一电极层远离所述衬底基板一侧，所述像素界定层包括多个开口，所述多个开口分别暴露所述多个第一电极部的至少一部分；以及

6、封装层，位于所述发光器件层远离所述衬底基板一侧；

7、其中，所述显示基板还包括位于所述发光器件层靠近所述衬底基板一侧的多个隔离柱以及位于所述封装层远离所述衬底基板一侧的至少一层阻挡层，所述多个隔离柱位于所述缓冲区域，所述阻挡层的材料包括无机绝缘材料，所述阻挡层在所述衬底基板上的正投影覆盖所述多个隔离柱在所述衬底基板上的正投影的至少一部分，且所述阻挡层在所述衬底基板上的正投影与至少一部分所述开口在所述衬底基板上的正投影相间隔。

8、根据一些示例性的实施例，所述阻挡层远离所述开孔区域的边缘位于最靠近所述缓冲区域的所述开口靠近所述缓冲区域的一侧。

9、根据一些示例性的实施例，所述阻挡层在所述衬底基板上的正投影与最靠近所述缓冲区域的所述开口在所述衬底基板上的正投影的间距大于等于5微米。

10、根据一些示例性的实施例，所述显示基板包括位于所述衬底基板上的挡墙，所述挡墙位于所述缓冲区域且至少部分环绕所述开孔区域，所述多个隔离柱包括位于所述挡墙靠近所述开孔区域一侧的至少一个第一隔离柱与位于所述挡墙远离所述开孔区域一侧的至少一个第二隔离柱，所述阻挡层在所述衬底基板上的正投影覆盖所述多个第一隔离柱在所述衬底基板上的正投影的至少一部分。

11、根据一些示例性的实施例，所述阻挡层远离所述开孔区域的边缘位于最靠近所述挡墙的所述第一隔离柱远离所述开孔区域的一侧。

12、根据一些示例性的实施例，所述阻挡层远离所述开孔区域的边缘位于最靠近所述显示区域的所述第二隔离柱远离所述开孔区域的一侧。

13、根据一些示例性的实施例，所述显示基板包括位于所述开孔区域的开孔，所述阻挡层靠近所述开孔区域的边缘与所述开孔的边缘基本齐平。

14、根据一些示例性的实施例，所述显示基板还包括位于所述封装层远离所述衬底基板一侧的触控层，所述触控层包括位于所述封装层上的第一触控绝缘层与位于所述第一触控绝缘层远离所述衬底基板一侧的第二触控绝缘层。

15、根据一些示例性的实施例，至少一层所述阻挡层位于所述封装层与所述第一触控绝缘层之间。

16、根据一些示例性的实施例，至少一层所述阻挡层位于所述第一触控绝缘层与所述第二触控绝缘层之间。

17、根据一些示例性的实施例，至少一层所述阻挡层位于所述第二触控绝缘层远离所述衬底基板的一侧。

18、根据一些示例性的实施例，所述显示基板还包括位于所述触控层远离所述衬底基板一侧的有机保护层，至少一层所述阻挡层位于所述第二触控绝缘层与所述有机保护层之间，和/或至少一层所述阻挡层位于所述有机保护层远离所述衬底基板的一侧。

19、根据一些示例性的实施例，所述第一触控绝缘层与所述第二触控绝缘层中的至少一者包括有机绝缘材料。

20、根据一些示例性的实施例，所述阻挡层的厚度为2000-6000埃。

21、在另一方面，提供一种显示基板的制备方法，所述显示基板包括开孔区域、位于所述开孔区域周边的缓冲区域以及位于所述缓冲区域周边的显示区域，所述制备方法包括如下步骤：

22、在衬底基板上形成驱动电路层；

23、在所述衬底基板上形成多个隔离柱，所述多个隔离柱位于所述缓冲区域；

24、在所述驱动电路层与所述多个隔离柱远离所述衬底基板的一侧形成发光器件层和像素界定层，所述发光器件层包括位于所述驱动电路层远离所述衬底基板一侧的第一电极层，所述像素界定层位于所述第一电极层远离所述衬底基板一侧，所述第一电极层包括多个第一电极部，所述像素界定层包括多个开口，所述多个开口分别暴露所述多个第一电极部的至少一部分；

25、在所述发光器件层远离所述衬底基板的一侧形成封装层；

26、在所述封装层远离所述衬底基板的一侧形成阻挡材料膜层，所述阻挡材料膜层的材料包括无机绝缘材料；以及

27、在所述开孔区域形成开孔，所述阻挡材料膜层保留的部分形成阻挡层，其中，所述阻挡层在所述衬底基板上的正投影覆盖所述多个隔离柱在所述衬底基板上的正投影的至少一部分，且所述阻挡层在所述衬底基板上的正投影与至少一部分所述开口在所述衬底基板上的正投影相间隔。

28、根据一些示例性的实施例，所述阻挡材料膜层包括位于所述开孔区域的第一部分与位于所述缓冲区域的第二部分，所述第一部分与所述第二部分直接连接，所述第一部分基本覆盖所述开孔区域。

29、根据一些示例性的实施例，所述阻挡材料膜层包括位于所述开孔区域的第一部分与位于所述缓冲区域的第二部分，所述第一部分与所述第二部分直接连接，所述第一部分覆盖所述开孔区域靠近所述缓冲区域的部分区域，所述第一部分具有镂空结构。

30、在另一方面，提供一种显示装置，所述显示装置包括上述的显示基板。

技术特征：

1.一种显示基板，其中，所述显示基板包括开孔区域、位于所述开孔区域周边的缓冲区域以及位于所述缓冲区域周边的显示区域，所述显示基板包括：

2.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述阻挡层远离所述开孔区域的边缘位于最靠近所述缓冲区域的所述开口靠近所述缓冲区域的一侧。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其中，所述阻挡层在所述衬底基板上的正投影与最靠近所述缓冲区域的所述开口在所述衬底基板上的正投影的间距大于等于5微米。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述显示基板包括位于所述衬底基板上的挡墙，所述挡墙位于所述缓冲区域且至少部分环绕所述开孔区域，所述多个隔离柱包括位于所述挡墙靠近所述开孔区域一侧的至少一个第一隔离柱与位于所述挡墙远离所述开孔区域一侧的至少一个第二隔离柱，所述阻挡层在所述衬底基板上的正投影覆盖所述至少一个第一隔离柱在所述衬底基板上的正投影的至少一部分。

5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述阻挡层远离所述开孔区域的边缘位于最靠近所述挡墙的所述第一隔离柱远离所述开孔区域的一侧。

6.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述阻挡层远离所述开孔区域的边缘位于最远离所述开孔区域的第二隔离柱远离所述开孔区域的一侧。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的显示基板，其中，所述显示基板包括位于所述开孔区域的开孔，所述阻挡层靠近所述开孔区域的边缘与所述开孔的边缘基本齐平。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的显示基板，其中，所述显示基板还包括位于所述封装层远离所述衬底基板一侧的触控层，所述触控层包括位于所述封装层上的第一触控绝缘层与位于所述第一触控绝缘层远离所述衬底基板一侧的第二触控绝缘层。

9.根据权利要求8所述的显示基板，其中，至少一层所述阻挡层位于所述封装层与所述第一触控绝缘层之间。

10.根据权利要求8所述的显示基板，其中，至少一层所述阻挡层位于所述第一触控绝缘层与所述第二触控绝缘层之间。

11.根据权利要求8所述的显示基板，其中，至少一层所述阻挡层位于所述第二触控绝缘层远离所述衬底基板的一侧。

12.根据权利要求11所述的显示基板，其中，所述显示基板还包括位于所述触控层远离所述衬底基板一侧的有机保护层，至少一层所述阻挡层位于所述第二触控绝缘层与所述有机保护层之间，和/或至少一层所述阻挡层位于所述有机保护层远离所述衬底基板的一侧。

13.根据权利要求8-12中任一项所述的显示基板，其中，所述第一触控绝缘层与所述第二触控绝缘层中的至少一者包括有机绝缘材料。

14.根据权利要求1-13中任一项所述的显示基板，其中，所述阻挡层的厚度为2000-6000埃。

15.一种显示基板的制备方法，其中，所述显示基板包括开孔区域、位于所述开孔区域周边的缓冲区域以及位于所述缓冲区域周边的显示区域，所述制备方法包括如下步骤：

16.根据权利要求15所述的制备方法，其中，所述阻挡材料膜层包括位于所述开孔区域的第一部分与位于所述缓冲区域的第二部分，所述第一部分与所述第二部分直接连接，所述第一部分基本覆盖所述开孔区域。

17.根据权利要求15所述的制备方法，其中，所述阻挡材料膜层包括位于所述开孔区域的第一部分与位于所述缓冲区域的第二部分，所述第一部分与所述第二部分直接连接，所述第一部分覆盖所述开孔区域靠近所述缓冲区域的部分区域，所述第一部分具有镂空结构。

18.一种显示装置，其中，所述显示装置包括根据权利要求1-14中任一项所述的显示基板。

技术总结
提供一种显示基板，包括开孔区域、位于开孔区域周边的缓冲区域以及位于缓冲区域周边的显示区域，显示基板包括：衬底基板；驱动电路层；发光器件层；像素界定层，发光器件层包括第一电极层，第一电极层包括多个第一电极部，像素界定层包括多个开口，多个开口分别暴露多个第一电极部的至少一部分；以及封装层；其中，显示基板还包括位于发光器件层靠近衬底基板一侧的多个隔离柱以及位于封装层远离衬底基板一侧的至少一层阻挡层，多个隔离柱位于缓冲区域，阻挡层的材料包括无机绝缘材料，阻挡层在衬底基板上的正投影覆盖多个隔离柱在衬底基板上的正投影的至少一部分，且阻挡层在衬底基板上的正投影与至少一部分开口在衬底基板上的正投影相间隔。

技术研发人员：张元其,刘庭良,李伟
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/8/13