有机EL器件的制造方法及涂敷装置与流程

本公开涉及一种制造有机el器件的有机el器件的制造方法及涂敷装置。

背景技术：

1、在制造具备面板(有机el面板)的有机el器件时，已知使用喷墨装置在基板上的期望部位涂敷溶液膜的方法，上述的面板具有作为有机el(electro luminescence，电致发光)元件的oled(organic light emitting diode，有机电致发光二极管)。溶液膜是由包含溶质和溶剂的溶液构成的膜。通过使基板干燥、也就是使涂敷在基板上的溶液膜所包含的溶剂蒸发，从而在基板上形成膜(层)。

2、在专利文献1中公开了一种这样的有机el器件的制造方法：准备具有由堤(bank)划分的多个槽区域(子像素)的基板，在各槽区域涂敷墨，使基板、即墨干燥，在各槽区域形成像素的功能膜。

3、现有技术文献

4、专利文献

5、专利文献1：国际公开第2015/166647号

技术实现思路

1、发明要解决的问题

2、在由1个基板制造尺寸不同的两个以上的面板的情况、即基板具有多个第1点区域和多个第2点区域且多个第2点区域中的各第2点区域比多个第1点区域中的各第1点区域小的情况下，在使基板干燥的工序中，有可能在第1点区域的膜的干燥速度和第2点区域的膜的干燥速度之间产生偏差。其结果，在第1点区域和第2点区域分别形成的膜的膜厚分布有可能产生偏差。

3、用于解决问题的方案

4、本公开的第1技术方案是一种有机el器件的制造方法，其特征在于，该制造方法包括：准备基板的工序，该基板具有包含呈矩阵状排列的多个第1点区域和呈矩阵状排列的多个第2点区域的主面，所述多个第2点区域中的各第2点区域比所述多个第1点区域中的各第1点区域小；以及涂敷工序，在所述多个第1点区域分别涂敷第1液体，在所述多个第2点区域分别涂敷第2液体，且在所述多个第2点区域之间涂敷第3液体。

5、本公开的第2技术方案是一种涂敷装置，其特征在于，该涂敷装置包括：液体喷出部；基板保持部，其保持基板，该基板具有包含呈矩阵状排列的多个第1点区域和呈矩阵状排列的多个第2点区域的主面，所述多个第2点区域中的各第2点区域比所述多个第1点区域中的各第1点区域小；以及控制部，其控制所述液体喷出部，所述控制部控制所述液体喷出部，在所述多个第1点区域分别涂敷第1液体，在所述多个第2点区域分别涂敷第2液体，且在所述多个第2点区域之间涂敷第3液体。

技术特征：

1.一种有机el器件的制造方法，其特征在于，

2.根据权利要求1所述的有机el器件的制造方法，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的有机el器件的制造方法，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的有机el器件的制造方法，其特征在于，

5.根据权利要求3所述的有机el器件的制造方法，其特征在于，

6.根据权利要求1～5中任一项所述的有机el器件的制造方法，其特征在于，

7.根据权利要求1～5中任一项所述的有机el器件的制造方法，其特征在于，

8.根据权利要求1～5中任一项所述的有机el器件的制造方法，其特征在于，

9.根据权利要求1～5中任一项所述的有机el器件的制造方法，其特征在于，

10.根据权利要求1～5中任一项所述的有机el器件的制造方法，其特征在于，

11.根据权利要求10所述的有机el器件的制造方法，其特征在于，

12.根据权利要求10所述的有机el器件的制造方法，其特征在于，

13.根据权利要求9所述的有机el器件的制造方法，其特征在于，

14.根据权利要求1～5中任一项所述的有机el器件的制造方法，其特征在于，

15.根据权利要求1～5中任一项所述的有机el器件的制造方法，其特征在于，

16.根据权利要求15所述的有机el器件的制造方法，其特征在于，

17.根据权利要求1～5中任一项所述的有机el器件的制造方法，其特征在于，

18.根据权利要求1～5中任一项所述的有机el器件的制造方法，其特征在于，

19.根据权利要求1～5中任一项所述的有机el器件的制造方法，其特征在于，

20.根据权利要求1～5中任一项所述的有机el器件的制造方法，其特征在于，

21.根据权利要求20所述的有机el器件的制造方法，其特征在于，

22.一种涂敷装置，其特征在于，

23.根据权利要求22所述的涂敷装置，其特征在于，

24.根据权利要求22所述的涂敷装置，其特征在于，

技术总结
本发明提供一种有利于使膜厚分布均匀的有机EL器件的制造方法及涂敷装置。有机EL器件的制造方法包括：准备基板的工序，该基板具有包含呈矩阵状排列的多个第1点区域和呈矩阵状排列的多个第2点区域的主面，所述多个第2点区域中的各第2点区域比所述多个第1点区域中的各第1点区域小；以及涂敷工序，在所述多个第1点区域分别涂敷第1液体，在所述多个第2点区域分别涂敷第2液体，且在所述多个第2点区域之间涂敷第3液体。

技术研发人员：桐生一马,岸本克史
受保护的技术使用者：佳能株式会社
技术研发日：
技术公布日：2025/2/17