本发明涉及薄膜太阳能电池,具体地,涉及一种铜铟镓硒底电池用复合窗口层结构及其制备方法。
背景技术:
1、太阳能作为重要的可再生能源,近年来得到快速发展,在各种已经商业化的太阳能电池中,铜铟镓硒(以下简称“cigs”)薄膜太阳能电池因拥有弱光效应好、温度系数低和衰减效率少等特点在光伏建筑一体化、屋顶发电、移动能源等领域具有广泛应用的趋势。此外,可调节的带隙宽度和优异的稳定性也使cigs电池作为底电池应用在叠层电池领域受到越来越多的关注。
2、然而在实际生产中制备的cigs窗口层为本征氧化锌(i-zno)层和氧化锌掺铝(azo)层,为了减少电池的漏电流和降低其串联电阻,厚度大多超过1.2μm,因此成本较高。此外,现有的窗口层材料在近红外区域具有一定的寄生吸收,使其在近红外波段的透过率降低,从而影响了cigs底电池的转换效率,最终导致叠层电池整体效率的下降。
技术实现思路
1、本发明的目的在于克服现有技术的不足,提供一种铜铟镓硒底电池用复合窗口层结构及其制备方法,该方法能够制备出膜层均匀、电阻率低且近红外透过率高的铜铟镓硒底电池用复合窗口层。
2、本发明的目的可以通过以下技术方案实现:
3、一种铜铟镓硒底电池用复合窗口层结构,由复合氧化物层、超薄金属层和铟锆氧化物层组成;
4、其中,所述复合氧化物层作为阻挡层、所述超薄金属层和铟锆氧化物层作为复合窗口层;
5、所述复合氧化物层为厚度30~50nm的mgzno薄膜,所述超薄金属层为厚度1~3nm的zn种子层和厚度7~9nm的金属cu薄膜,所述铟锆氧化物层为厚度100~150nm的掺杂zr的in2o3薄膜。
6、进一步的,所述的掺杂zr的in2o3薄膜,掺杂zr的质量比为1%~5%。
7、一种铜铟镓硒底电池用复合窗口层的制备方法,包括以下步骤:
8、(1)采用共溅射法在铜铟镓硒底电池的缓冲层上先沉积mgzno薄膜,形成阻挡层,然后采用直流溅射法在阻挡层上依次沉积zn种子层和金属cu薄膜,形成超薄金属层;
9、(2)采用低温无损射频溅射法在超薄金属层上沉积掺杂zr的in2o3薄膜,经过退火处理得到高性能复合窗口层。
10、进一步的,步骤(1)中的共溅射法的工艺参数为:溅射功率为50~150w,工作气压为0.1~1.5pa,氩气流量为30ppm,氧气流量为3ppm,zn靶溅射时间为10~15min,mg靶溅射时间为1~5min。
11、进一步的,步骤(1)中的直流溅射法的工艺参数为:溅射功率为20~50w,工作气压为0.1~1pa,氩气流量为30ppm,zn靶溅射时间为1s,cu靶溅射时间为10s。
12、进一步的,步骤(2)中低温无损射频溅射法的工艺参数为:溅射功率为40~60w,工作气压为0.1~2pa,氩气流量为30ppm,溅射时间为90~140min;步骤(2)中退火工艺参数为:退火温度为80~120℃,退火时间为30~60min。
13、本发明通过引入mgzno作为阻挡层,可有效降低电池的漏电流,提高分流电阻,采用zn种子层和cu薄膜相结合的超薄金属层可提高cu膜的均匀性和连续性,采用掺杂zr的in2o3薄膜可减少窗口层在近红外区域的寄生吸收,提高近红外区域的平均透过率,结合超薄金属层可进一步提高窗口层整体的电导率。
14、本发明的有益效果:
15、该方法制备的铜铟镓硒底电池用复合窗口层,不仅能有效提高其整体的电导率,而且增加底电池在近红外波段的吸收,从而提高底电池的转换效率。另外极大减少整体窗口层的厚度,有效降低生产成本,且工艺流程简单,易于对现有产线进行升级改造。
1.一种铜铟镓硒底电池用复合窗口层结构,其特征在于,由复合氧化物层、超薄金属层和铟锆氧化物层组成;
2.根据权利要求1所述的一种铜铟镓硒底电池用复合窗口层结构,其特征在于,所述的掺杂zr的in2o3薄膜,掺杂zr的质量比为1%~5%。
3.根据权利要求1-2任一项所述的一种铜铟镓硒底电池用复合窗口层结构的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
4.根据权利要求3所述的一种铜铟镓硒底电池用复合窗口层结构的制备方法,其特征在于,步骤(1)中的共溅射法的工艺参数为:溅射功率为50~150w,工作气压为0.1~1.5pa,氩气流量为30ppm,氧气流量为3ppm,zn靶溅射时间为10~15min,mg靶溅射时间为1~5min。
5.根据权利要求3所述的一种铜铟镓硒底电池用复合窗口层结构的制备方法,其特征在于,步骤(1)中的直流溅射法的工艺参数为:溅射功率为20~50w,工作气压为0.1~1pa,氩气流量为30ppm,zn靶溅射时间为1s,cu靶溅射时间为10s。
6.根据权利要求3所述的一种铜铟镓硒底电池用复合窗口层结构的制备方法,其特征在于,步骤(2)中低温无损射频溅射法的工艺参数为:溅射功率为40~60w,工作气压为0.1~2pa,氩气流量为30ppm,溅射时间为90~140min。
7.根据权利要求3所述的一种铜铟镓硒底电池用复合窗口层结构的制备方法,其特征在于,步骤(2)中退火工艺参数为:退火温度为80~120℃,退火时间为30~60min。