专利名称：有机发光显示面板及其阻隔基板的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种显示面板及其阻隔基板，特别是指一种有机发光显示面板及其阻隔基板。
背景技术：
近年来平面显示器朝着高亮度、平面化、轻薄以及省能源的趋势发展，有鉴于此，有机发光(OEL)显示装置成为目前光电产业中极欲发展的方向之一。有机发光显示装置为一种利用有机官能性材料(organic functional materials)的自发光特性来达到显示效果的装置，依照有机官能性材料的分子量不同，可分为小分子有机发光显示装置(small molecule OLED，SM-OLED)与高分子有机发光显示装置(polymer light-emitting display，PLED)两大类。
由于有机发光元件(有机官能性材料)对于水气与氧气非常敏感，与大气接触后容易产生暗点(Dark Spot)，所以，为了确保有机发光元件的使用寿命，如图1所示，目前的有机发光显示面板6利用封合膜61披覆于基板62与有机发光区63上，以隔绝水气与氧气入侵至有机发光区63。
另一方面，随着可携式电子装置的发展，传统的玻璃基板因为厚度限制(约大于0.4mm)、较重、易碎以及大尺寸制作不易等缺点，已无法满足轻、薄、短、小的需求。所以，利用质轻、耐冲击、可挠曲的塑料基板来代替玻璃基板已成为目前发展的趋势。
然而，水气对于一般塑料基材的渗透度(约为10-1-10g/m2/day，室温下)远大于对于玻璃基材的渗透度(10-5g/m2/day，室温下)，因此塑料基材阻绝水气与氧气的能力，无法像玻璃基材对元件一样提供足够的保护，所以如何强化塑料基板阻绝水气、氧气的能力成为目前首要突破的关键技术之一。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的不足与缺陷，提供一种阻止水气以及氧气入侵的有机发光显示面板及其阻隔基板。
为达上述目的，依据本发明的一种有机发光显示面板，包含一基板、数个突部、至少一阻隔层、至少一平坦层以及至少一有机发光区，其中，突部形成于基板之上；阻隔层形成于基板与突部之上；平坦层形成于阻隔层及/或基板之上；有机发光区形成于平坦层之上，且有机发光区具有至少一像素。
为达上述目的，依据本发明的一种有机发光显示面板，包含一基板、至少一阻隔层以及至少一有机发光区，其中，阻隔层形成于基板之上，且阻隔层为无机材质；有机发光区形成于阻隔层之上，且有机发光区具有至少一像素。
为达上述目的，依据本发明的一种有机发光显示面板，包含一基板、至少一阻隔层；以及至少一有机发光区，其中，阻隔层的至少一层以光化学气相沉积法形成于基板之上；有机发光区形成于阻隔层之上，且有机发光区具有至少一像素。
为达上述目的，依据本发明的一种阻隔基板，包含一基板、数个突部、至少一阻隔层以及至少一平坦层，其中，突部形成于基板之上；阻隔层形成于突部及/或基板之上；平坦层形成于阻隔层及/或基板之上。
为达上述目的，依据本发明的一种阻隔基板，包含一基板以及至少一阻隔层，其中，阻隔层形成于基板之上，且阻隔层为无机材质。
承上所述，于本发明的有机发光显示面板及其阻隔基板中，于基板上形成有一层或是多层结构的阻隔层。与现有技术相比，本发明的有机发光显示面板及其阻隔基板可以避免水气与氧气经由基板入侵至有机发光区(有机发光元件)，进而增长有机发光显示面板的使用寿命。又，多层结构的阻隔层能够错开阻隔层之间孔隙的位置，有效地补偿膜层的缺陷，使得水气的穿透路径增长，更进一步防止水气与氧气入侵到元件内部。且，本发明中的多层阻隔层更可由具有不同杨氏模数的阻隔层所组成，将具有较低杨氏模数的阻隔层夹置于具有较高杨氏模数的阻隔层之间以产生缓冲的作用，藉以降低阻隔层之间的应力。再者，利用数个突部使得阻隔层成波浪状，此举可以增加阻隔层与其它部分(基板与突部)的接触面积与附着力，同时更可减少热涨冷缩时所产生的应力，当可挠性基板弯曲变形时，所产生的应力较小，阻隔层亦较不易龟裂。另外，阻隔层可利用光化学气相沉积法形成，利用光化学气相沉积法不仅可以在低温(约300℃以下)下提供足够的成膜速率，又，由于低温所形成的膜层结构较为松散，可减低膜层的内应力，更可减少膜层剥落的可能性。
图1为现有有机发光显示面板的一示意图；图2A与图2B为本发明第一实施例的有机发光显示面板的一组示意图；图3为本发明第二实施例的有机发光显示面板的一示意图；图4为本发明第二实施例的有机发光显示面板的另一示意图；图5为本发明第三实施例的有机发光显示面板的一示意图；图6为本发明第四实施例的阻隔基板的一示意图；图7为本发明第五实施例的阻隔基板的一示意图；图8为本发明第五实施例的阻隔基板的另一示意图。
图中符号说明
1 有机发光显示面板11基板12突部13阻隔层14平坦层15有机发光区151 像素1511 第一电极1512 有机官能层1513 第二电极16封合元件17保护层2 有机发光显示面板21基板221、222、223、22阻隔层23有机发光区231 像素2311 第一电极2312 有机官能层2313 第二电极24封合元件25突部26平坦层3 有机发光显示面板31基板32阻隔层33有机发光区331 像素3311 第一电极3312 有机官能层
3313 第二电极34封合元件4 阻隔基板41基板42突部43阻隔层44平坦层5 阻隔基板51基板52阻隔层53平坦层54突部6 有机发光显示面板61封合膜62基板63有机发光区具体实施方式
以下将参照相关附图，说明依据本发明较佳实施例的有机发光显示面板及其阻隔基板。
第一实施例如图2A及图2B所示，依据本发明第一实施例的有机发光显示面板1，至少包含一基板11、数个突部12、一阻隔层13、一平坦层14以及一有机发光区15，其中，突部12形成于基板11之上；阻隔层13形成于基板11与突部12之上；平坦层14形成于阻隔层13及/或基板11之上；有机发光区15形成于平坦层14之上，且有机发光区15具有数个像素151。
于本实施例中，基板11可以是可挠性(flexible)基板或是刚性(rigid)基板。另外，基板11为高分子基板，其中高分子可以是塑料(plastic)、聚碳酸酯(polycarbonate，PC)基板、聚酯(polyester，PET)基板、环烯共聚物(cyclic olefin copolymer，COC)基板或金属铬合物基材-环烯共聚物(metallocene-based cyclic olefin copolymer，mCOC)基板等等。
另外，如图2A及图2B所示，本实施例的突部12形成于基板11之上。于本实施例中，突部12相互连接(如图2A所示)。当然，突部12亦可以独立设置(如图2B所示)。
于本实施例中，突部12的材质为防水性材料，例如但不限定为感光材料(例如光阻)或二氧化硅。
再者，本实施例的突部12的形状可以是点块状或是长条块状等等。另外，于本实施例中，如图2A所示，突部12的侧面与基板11之间的夹角θ约大于或等于90°，其是为了避免后续所形成的阻隔层13发生不连续的情形，而使得水气与氧气经由孔隙进入。
另外，如图2A及图2B所示，阻隔层13形成于基板11与突部12之上。由于阻隔层13形成于突部12及/或基板11之上，使得阻隔层13呈现类似波浪状的结构，此种结构不仅增加了阻隔层13与其它部分(突部12与基板11)之间的接触面积以及附着力，更可减少热涨冷缩的应力。另外，当基板11为可挠性基板时，基板11发生弯曲变形时，阻隔层13所产生的应力较小且亦较不易龟裂。
于本实施例中，阻隔层13可利用光化学气相沉积法形成，其中光化学气相沉积法可以是真空紫外光(Vacuum Ultra-Violet，VUV)化学气相沉积法。
由于光化学气相沉积法利用光子来分解激发反应气体，所以反应得以在低温(约为300℃以下)环境进行。另外，于本实施例中，由于光化学气相沉积法所形成的阻隔层13结构较为松散，可降低膜层的内应力，所以能够避免阻隔层13剥离脱落。当然，阻隔层13亦可利用溅镀法形成。
于本实施例中，阻隔层13为无机材质，其中，阻隔层13选自氧化硅(SiOx)、类钻石薄膜(Diamond Like Carbon，DLC)、氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiOxNy)、三氧化二铝(Al2O3)及金属(包括但不限于铝、铜、金以及银)至少其中之一。于此，阻隔层13具有防水性，可提高有机发光显示面板1的可靠度。
另外，再请参考图2A与图2B，平坦层14形成于阻隔层13及/或基板11之上。本实施例中，平坦层14用以包覆不平坦的阻隔层13，作为平坦化之用。同时，平坦层14更可包覆制程中所存在的微粒子。另外，平坦层14亦具有防水以及防氧的功能，可保护后续形成的有机发光区15不受水气与氧气的影响。
于本实施例中，平坦层14为无机材质，且平坦层14选自氧化硅、类钻石薄膜、氮化硅、氮氧化硅以及三氧化二铝至少其中之一。
另外，再请参考图2A及图2B，有机发光区15具有数个像素151，像素151依序包含一第一电极1511、至少一有机官能层1512及一第二电极1513，而第一电极1511位于平坦层14之上。
于本实施例中，第一电极1511利用溅镀(sputtering)方式或是离子电镀(ion plating)方式形成于平坦层14上。在此，第一电极1511通常作为阳极且其材质通常为一透明的可导电的金属氧化物，例如氧化铟锡(ITO)、氧化铝锌(AlZnO)或是氧化铟锌(IZO)。
另外，有机官能层1512通常包含一电洞注入层、一电洞传递层、一发光层、一电子传递层以及一电子注入层(图中未显示)。其中，有机官能层1512利用蒸镀(evaporation)、旋转涂布(spin coating)、喷墨印刷(ink jet printing)或是印刷(printing)等方式形成于第一电极1511上。此外，有机官能层1512所发射的光线可为蓝光、绿光、红光、白光、其它的单色光或单色光组合成的彩色光。
再请参考图2A及图2B，第二电极1513位于有机官能层1512上。于此，第二电极1513使用蒸镀或是溅镀(sputtering)等方法形成于有机官能层1512上。另外，第二电极1513的材质可选自但不限定为铝(Al)、钙(Ca)、镁(Mg)、铟(In)、锡(Sn)、锰(Mn)、银(Ag)、金(Au)及含镁的合金(例如镁银(Mg:Ag)合金、镁铟(Mg:In)合金、镁锡(Mg:Sn)合金、镁锑(Mg:Sb)合金及镁碲(Mg:Te)合金)等。
再请参考图2A，本实施例的有机发光显示面板1更包含一封合元件16，其设置于平坦层14之上。于此，封合元件16可以是盖板，其以一黏着胶贴合于平坦层14之上。由于有机发光区15(有机发光元件)对于水分与氧气非常敏感，在与大气接触后容易产生暗点，所以加上封合元件16以避免有机发光区15受到水分与氧气的影响。
另外，再请参考图2B，本实施例的有机发光显示面板1更包含一保护层17，其披覆于有机发光区15与平坦层14之上。于此，保护层17亦用以避免有机发光区15受到水分与氧气的影响。
第二实施例如图3所示，依据本发明第二实施例的有机发光显示面板2至少包含一基板21、数个阻隔层22以及一有机发光区23，其中，阻隔层22形成于基板21之上，且阻隔层为无机材质；有机发光区23形成于阻隔层22之上，且有机发光区23具有数个像素231。
于本实施例中，阻隔层22中的至少一层可利用光化学气相沉积法形成。当然，阻隔层22中的至少一层亦可利用溅镀法形成。
如上所述，利用光化学气相沉积法所形成的阻隔层22结构较为松散，可降低膜层的内应力，所以能够避免阻隔层22剥离脱落。
于本实施例中，阻隔层22为无机材质，其中，阻隔层22选自氧化硅、类钻石薄膜、氮化硅、氮氧化硅、三氧化二铝及金属(包括但不限于铝、铜、金以及银)至少其中之一。于此，阻隔层22具有防水性，可进一步提高有机发光显示面板2的可靠度。
再者，本实施例的阻隔层22亦可同时具有防水性以及缓冲功能。例如如图3所示，阻隔层221、223(材质如氮化硅、氮氧化硅、类钻石薄膜、三氧化二铝及金属(例如、铝、铜、金以及银))具有极高的防水性，能够有效防止水气以及氧气的入侵；而夹置于阻隔层221、223之间的阻隔层222(材质如氧化硅)则具有较小的机械强度，使其具有缓冲功能，能够有效地降低阻隔层22的内应力。此种多层结构能够错开阻隔层22之间孔隙的位置，有效地补偿膜层的缺陷，另外更使得水气的穿透路径增长，进一步加强防水的效果。
再请参照图3，有机发光区23具有数个像素231，像素231依序包含一第一电极2311、至少一有机官能层2312及一第二电极2313，而第一电极2311位于阻隔层22之上。
本实施例中的基板21、有机发光区23、像素231、第一电极2311、有机官能层2312及第二电极2313的特征与功能与第一实施例中相同元件相同，在此亦不再赘述。
再请参照图3，本实施例的有机发光显示面板2更包含一封合元件24。
另外，本实施例的有机发光显示面板2更包含一保护层(未示于图中)披覆于有机发光区23与阻隔层22之上。
于本实施例中，封合元件24与保护层的特征与功能皆与第一实施例中相同元件相同，在此不再赘述。
另外，再请参考图4，本实施例的有机发光显示面板2更包含数个突部25，突部25形成于基板21之上。于此，突部25的特征与功能皆与第一实施例中的突部12相同，在此亦不再赘述。
另外，再请参照图4，本实施例的有机发光显示面板2更包含一平坦层26，平坦层26形成于阻隔层22及/或基板21与有机发光区23之间，于此，平坦层26的特征与功能与第一实施例的平坦层14的特征与功能相同，在此亦不再赘述。
第三实施例再请参考图5，本发明第三实施例的有机发光显示面板3至少包含一基板31、一阻隔层32以及一有机发光区33，其中，阻隔层32以光化学气相沉积法形成于基板31之上；有机发光区33形成于阻隔层32之上，且有机发光区33具有数个像素331。
于此，像素331依序包含一第一电极3311、至少一有机官能层3312及一第二电极3313，而第一电极3311位于阻隔层32之上。
另外，如图5所示，阻隔层32以光化学气相沉积法形成于基板31之上。于此，其中光化学气相沉积法可以是真空紫外光(VacuumUltra-Violet，VUV)化学气相沉积法。如上所述，利用光化学气相沉积法所形成的阻隔层32结构较为松散，可降低膜层的内应力，所以能够避免阻隔层32剥离脱落。再者，阻隔层32的材质与第一实施例中的阻隔层13相同，在此亦不再赘述。
再者，本实施例中的基板31、有机发光区33、像素331、第一电极3311、有机官能层3312及第二电极3313的特征与功能皆与第一实施例中的相同元件相同，在此亦不再赘述。
再请参照图5，本实施例的有机发光显示面板3更包含一封合元件34。
另外，本实施例的有机发光显示面板3更包含一保护层(未示于图中)披覆于有机发光区33与阻隔层32之上。
于本实施例中，封合元件34与保护层的特征与功能皆与第一实施例中相同元件相同，在此不再赘述。
第四实施例如图6所示，本发明第四实施例的阻隔基板4至少包含一基板41、数个突部42、一阻隔层43以及一平坦层44，其中，突部42形成于基板41之上；阻隔层43形成于突部42及/或基板41之上；平坦层44形成于阻隔层43及/或基板41之上。
本实施例中的基板41、突部42、阻隔层43以及平坦层44的特征与功能皆与第一实施例中的相同元件相同，在此亦不再赘述。
第五实施例如图7所示，本发明第五实施例的阻隔基板5至少包含一基板51以及数个阻隔层52，其中，阻隔层52形成于基板51之上，且阻隔层52为无机材质。
本实施例的基板51与阻隔层52的特征与功能皆与第二实施例中相同元件相同，在此亦不再赘述。
如图8所示，本实施例的阻隔基板5更包含数个突部54，形成于基板51之上。
如图8所示，本实施例的阻隔基板5更包含一平坦层53，形成于基板51及/或阻隔层52之上。
本实施例中的突部54与平坦层53的特征与功能皆与第二实施例中的相同元件相同，在此亦不再赘述。
于本发明的有机发光显示面板及其阻隔基板中，于基板上形成有一层或是多层结构的阻隔层。与现有技术相比，本发明的有机发光显示面板及其阻隔基板可以避免水气与氧气经由基板入侵至有机发光区(有机发光元件)，进而增长有机发光显示面板的使用寿命。又，多层结构的阻隔层能够错开阻隔层之间孔隙的位置，有效地补偿膜层的缺陷，使得水气的穿透路径增长，更进一步防止水气与氧气入侵到元件内部。且，本发明中的多层阻隔层更可由具有不同杨氏模数的阻隔层所组成，将具有较低杨氏模数的阻隔层夹置于具有较高杨氏模数的阻隔层之间以产生缓冲的作用，藉以降低阻隔层之间的应力。再者，利用数个突部使得阻隔层成波浪状，此举可以增加阻隔层与其它部分(基板与突部)的接触面积与附着力，同时更可减少热涨冷缩时所产生的应力，当可挠性基板弯曲变形时，所产生的应力较小，阻隔层亦较不易龟裂。另外，阻隔层可利用光化学气相沉积法形成，利用光化学气相沉积法不仅可以在低温(约300℃以下)下提供足够的成膜速率，又，由于低温所形成的膜层结构较为松散，可减低膜层的内应力，更可减少膜层剥落的可能性。
以上所述仅为举例性，而非为限制性者。任何未脱离本发明的精神与范畴，而对其进行的等效修改或变更，均应包含于权利要求书的范围中。
权利要求
1.一种有机发光显示面板，其特征在于，包含一基板；数个突部，形成于基板之上；至少一阻隔层，形成于基板与突部之上；至少一平坦层，形成于阻隔层及/或基板之上；以及至少一有机发光区，其形成于平坦层之上，且有机发光区具有至少一像素。
2.如权利要求1所述的有机发光显示面板，其中，基板选自刚性基板、可挠性基板及高分子基板至少其中之一。
3.如权利要求1所述的有机发光显示面板，其中，突部的材质为防水性材料。
4.如权利要求1所述的有机发光显示面板，其中，阻隔层及平坦层为无机材质。
5.如权利要求4所述的有机发光显示面板，其中，阻隔层选自氧化硅、氮化硅、类钻石薄膜、氮氧化硅、三氧化二铝及金属至少其中之一。
6.如权利要求4所述的有机发光显示面板，其中，平坦层选自氧化硅、类钻石薄膜、氮化硅、氮氧化硅以及三氧化二铝至少其中之一。
7.如权利要求1所述的有机发光显示面板，其中，阻隔层具有防水性。
8.如权利要求1所述的有机发光显示面板，其中，阻隔层的至少一层以光化学气相沉积法或所以溅镀法形成。
9.如权利要求1所述的有机发光显示面板，其中，像素依序包含一第一电极、至少一有机官能层及一第二电极。
10.一种有机发光显示面板，其特征在于，包含一基板；至少一阻隔层，形成于基板之上，且阻隔层为无机材质；以及至少一有机发光区，其形成于阻隔层之上，且有机发光区具有至少一像素。
11.如权利要求10所述的有机发光显示面板，其中，基板选自刚性基板、可挠性基板及高分子基板至少其中之一。
12.如权利要求10所述的有机发光显示面板，其中，阻隔层选自氧化硅、氮化硅、类钻石薄膜、氮氧化硅、三氧化二铝及金属至少其中之一。
13.如权利要求10所述的有机发光显示面板，其中，阻隔层具有防水性。
14.如权利要求10所述的有机发光显示面板，其中，阻隔层的至少一层具有缓冲性。
15.如权利要求10所述的有机发光显示面板，其中，阻隔层的至少一层以光化学气相沉积法或所以溅镀法形成。
16.如权利要求10所述的有机发光显示面板，其中，像素依序包含一第一电极、至少一有机官能层及一第二电极。
17.如权利要求10所述的有机发光显示面板，更包含数个突部，形成于基板与阻隔层之间。
18.如权利要求17所述的有机发光显示面板，其中，突部的材质为防水性材料。
19.如权利要求17所述的有机发光显示面板，更包含至少一平坦层，形成于阻隔层及/或基板与有机发光区之间。
20.一种阻隔基板，其特征在于，包含一基板；数个突部，形成于基板之上；至少一阻隔层，形成于突部及基板之上；以及至少一平坦层，形成于阻隔层及/或基板之上。
21.如权利要求20所述的阻隔基板，其中，基板选自刚性基板、可挠性基板、玻璃基板及高分子基板至少其中之一。
22.如权利要求20所述的阻隔基板，其中，突部的材质为防水性材料。
23.如权利要求20所述的阻隔基板，其中，阻隔层及平坦层为无机材质。
24.如权利要求23所述的阻隔基板，其中，阻隔层选自氧化硅、类钻石薄膜、氮化硅、氮氧化硅、三氧化二铝及金属至少其中之一。
25.如权利要求23所述的阻隔基板，其中，平坦层选自氧化硅、类钻石薄膜、氮化硅、氮氧化硅以及三氧化二铝至少其中之一。
26.如权利要求20所述的阻隔基板，其中，阻隔层具有防水性。
27.如权利要求20所述的阻隔基板，其中，阻隔层的至少一层以光化学气相沉积法或所以溅镀法形成。
28.一种阻隔基板，包含一基板；以及至少一阻隔层，形成于基板之上，且阻隔层为无机材质。
29.如权利要求28所述的阻隔基板，其中，基板选自刚性基板、可挠性基板、玻璃基板及高分子基板至少其中之一。
30.如权利要求28所述的阻隔基板，其中，阻隔层选自氧化硅、类钻石薄膜、氮化硅、氮氧化硅、三氧化二铝及金属至少其中之一。
31.如权利要求28所述的阻隔基板，其中，阻隔层具有防水性。
32.如权利要求28所述的阻隔基板，其中，阻隔层的至少一层具有缓冲性。
33.如权利要求28所述的阻隔基板，其中，阻隔层的至少一层以光化学气相沉积法或所以溅镀法形成。
34.如权利要求28所述的阻隔基板，更包含数个突部，形成于基板与阻隔层之间。
35.如权利要求34所述的阻隔基板，其中，突部的材质为防水性材料。
36.如权利要求34所述的阻隔基板，更包含至少一平坦层，形成于基板及/或阻隔层之上。
全文摘要
本发明涉及一种有机发光显示面板，包含一基板、数个突部、至少一阻隔层、至少一平坦层以及至少一有机发光区，其中，突部形成于基板之上；阻隔层形成于基板与突部之上；平坦层形成于阻隔层及/或基板之上；有机发光区形成于平坦层之上，且有机发光区具有至少一像素。
文档编号H05B33/14GK1612649SQ20031010441
公开日2005年5月4日 申请日期2003年10月29日 优先权日2003年10月29日
发明者杨富祥, 李欣真, 吴志豪, 张毅 申请人:铼宝科技股份有限公司