专利名称：烹调器用面板的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种烹调器用面板，特别是涉及一种使波长3500 4000nm的红外线 透射，而抑制可见波长区域的透射的烹调器用面板。
背景技术：
以往，提出了代表IH(Induction Heating 感应加热)方式的烹调器的电烹调器。 一般来说，在电烹调器中，将面板设置在磁场产生线圈等加热装置的上面，将被加热体的载 置部形成为所谓的平顶形状。因此，电烹调器作为美观性及清扫性优异的烹调器而在近年 迅速普及。在电烹调器中，为了实现被加热体的自动温度设定功能和过度升温防止功能等功 能，需要检测被加热体的温度。作为被加热体的温度检测方法，例如，在下述的专利文献 1 4等中，提出了通过检测从被加热体等发出的红外线的强度来检测被加热体的温度的 方法。具体来说，例如，下述的专利文献1和2中，提出了通过检测从锅底放射出的红外 线来测定锅的温度的技术。下述的专利文献3中，提出了形成对红外线波长具备高吸收率和放射率的材料构 成的黑体材料层，测定该黑体材料层发出的红外线，由此测定被加热体的温度的技术。此外，下述的专利文献4中，提出了在面板的被加热体载置面上形成放射红外线 的覆盖膜，测定从覆盖膜放射出的红外线，由此测定被加热体的温度的技术。在这样的利用红外线进行的被加热体的温度测定中，如下述专利文献2中的记 载，一般利用4000nm以下波长的红外线。但是，例如在200°C左右的低温区域中，从被加热 体发出的红外线中，波长2500nm以下的红外线强度随着温度变化的变化程度不大。因此， 波长在2500nm以下的红外线不适合用于低温区域中的温度测定。另外，对于玻璃而言，一 般来说几乎不透射3000nm附近波长的光。因此，在测定被加热体的温度时，优选采用即使 在低温范围，放射强度也随着被加热体的温度有较大变化，而且以一定程度以上的透射率 透过玻璃基板的3500 4000nm波长的红外线来进行温度测定。在利用红外线来检测被加热体的温度时，从被加热体放射出的红外线透过面板， 由设置在面板下侧的检测装置检出。因此，在采用利用红外线检测被加热体温度的方法的 电烹调器中，要求面板在3500 4000nm的波长范围内具有高的透射率。另外，对于电烹调器而言，从美观的观点出发，希望看不到设置在面板下侧的加热 装置、配线等内部构造。因此，在电烹调器中，要求面板在可见波长区域内具有低的透射率。 作为降低面板在可见波长区域内的透射率的方法，例如，下述的专利文献5等中，公开了在 面板中与抗氧化膜一起形成遮光膜的方法。在专利文献5中，作为抗氧化膜和遮光膜的具 体例子，分别公开了氮化硅膜以及Si膜。现有技术文献专利文献
专利文献1 日本特开2005-216583号公报专利文献2 日本特开2004-95313号公报专利文献3 日本特开2003-12U61号公报专利文献4 日本特开2005-108586号公报专利文献5 日本特开2004-333102号公报
发明内容
发明要解决的课题然而，在专利文献5中所公开的面板虽然在可见波长区域内实现了低透射率，但 是没有实现在3500 4000nm的红外波长区域内的高透射率。本发明的目的在于提供一种在可见波长区域内的透射率低，而在3500 4000nm 的红外波长区域内的透射率高的烹调器用面板。解决课题的方法本发明的烹调器用面板的特征在于，具备玻璃基板和在玻璃基板上形成的由Si 膜及氮化硅膜构成的叠层膜，当Si膜的膜厚用、表示，氮化硅膜的膜厚用t2表示时，在表 示Si膜的膜厚、和氮化硅膜的膜厚t2的关系的
图1中，(ti;t2)处于依次以直线连接下述 表1中所示的点Al A36而结成范围X内。[表 1]
权利要求
1. 一种烹调器用面板，其特征在于具备玻璃基板和在所述玻璃基板上形成的由Si膜及氮化硅膜构成的叠层膜， 当所述Si膜的膜厚用、表示，所述氮化硅膜的膜厚用t2表示时，在表示所述Si膜的 膜厚、和所述氮化硅膜的膜厚、的关系的图1中，(t1; t2)处于依次以直线连接下述表1 中所示的点Al A36而形成的范围X内。 [表1]
2.如权利要求1所述的烹调器用面板，其特征在于在表示所述Si膜的膜厚、和所述氮化硅膜的膜厚t2的关系的图2中，(ti;t2)处于依 次以直线连接下述表2中所示的点Bl B^而形成的范围Y内。 [表2]
3.如权利要求1或者2所述的烹调器用面板，其特征在于 所述Si膜的膜厚、为118. 75nm以上。
4.如权利要求1 3中任一项所述的烹调器用面板，其特征在于 所述Si膜的膜厚、为125nm以上。
5.如权利要求1 4中任一项所述的烹调器用面板，其特征在于 所述氮化硅膜实质上由Si3N4构成。
6.如权利要求1 5中任一项所述的烹调器用面板，其特征在于 所述Si膜在所述玻璃基板和所述氮化硅膜之间形成。
全文摘要
本发明提供一种在可见波长区域的透射率低，且在3500～4000nm的红外波长区域的透射率高的烹调器用面板。一种烹调器用面板1，其特征在于，具备玻璃基板10和在玻璃基板10上形成的由Si膜11及由氮化硅膜12形成的叠层膜2，当Si膜11的膜厚用t1表示，氮化硅膜12的膜厚用t2表示时，在表示Si膜的膜厚t1和氮化硅膜的膜厚t2的关系的图1中，(t1，t2)处于依次以直线连接表1中所示的点A1～A36而形成的范围X内。
文档编号H05B6/12GK102099309SQ20098012814
公开日2011年6月15日 申请日期2009年6月13日 优先权日2008年7月18日
发明者池上耕司, 金井敏正 申请人:日本电气硝子株式会社