专利名称：具有色彩的壳体及其加工方法
技术领域：
本发明涉及一种具有色彩的壳体及其表面处理方法，尤涉及一种可具有特定色彩 与金属质感的具有色彩的壳体及其加工方法。
背景技术：
随着科技的迅速演进，行动电话、个人数字助理(PDA，Personal Digital Assistant)、个人计算机与笔记型计算机等各式电子装置发展迅速，其功能亦愈来愈丰富。 为了使电子装置的外壳具有丰富色彩，传统上可利用彩色塑料形成彩色塑料外壳，或藉由 喷漆方式在电子装置的壳体表面形成色料层。惟，塑料外壳与喷漆外壳不能呈现良好的金 属质感。另一方面，由于金属镀膜本身技术较为复杂而不易精密操控，因此习知技术始终只 能于壳体表面形成少数几种传统金属色彩，未能于丰富色彩质感方面有所突破。
发明内容
有鉴于此，有必要提供一种具有特定色彩的具有色彩的壳体及其表面处理方法， 以解决习知问题。一种具有色彩的壳体包含基材与色彩层。基材的表面包含至少一平滑区域，而色 彩层覆盖基材的平滑区域，其中色彩层于平滑区域中呈现的色度区域于国际照明委员会 (Commission Internationale de 1，6clairag，CIE) LAB 表色系统的 L* 坐标介于 81. 76 至 83. 76，a*坐标介于-0. 63至0. 37，而b*坐标介于-1. 04至0. 04。一种具有色彩的壳体的表面处理方法包括以下步骤提供一基材；以及形成一色 彩层，覆盖基材的表面，其中色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于 81. 76至83. 76，a*坐标介于-0. 63至0. 37，而b*坐标介于-1. 04至0. 04。与习知技术相比，所述具有色彩的壳体藉由其色彩层提供特定色彩的金属质感。
图1为本发明较佳实施例的具有色彩的壳体的结构示意图。图2为图1的具有色彩的壳体部分结构剖面示意图。图3为本发明较佳实施例的色彩层于CIE LAB表色系统L*坐标的范围的示意图。图4为本发明较佳实施例的色彩层于CIE LAB表色系统a*坐标与b*坐标的范围 的示意图。图5为本发明较佳实施例对具有色彩的壳体进行表面处理的流程示意图。
具体实施例方式下面将结合附图，以较佳实施例并配合图式详细描述如下。请参阅图1及图2，本发明具有色彩的壳体的较佳实施例例如可为一行动电话的 外壳，其包括一基材1、一色彩层3及选择性的覆盖层4。其中色彩层3设于基材1的表面，而覆盖层4可设置于色彩层3的表面。基材1可包含不锈钢等金属材料或是玻璃等陶瓷材料，基材1可具有至少一待镀 膜处理的表面，而待镀膜处理的表面可以包含具有不同表面结构的区域，例如包含至少一 平滑区域、至少一雾化区域、或具有多数个拉丝状微结构的区域，或前述区域的组合。色彩 层3的材料可包含氮化铬(CrN)或其它可提供附着效果的材料。另外，色彩层3可包含一层 或多数层金属材料，例如铬合金。覆盖层4可包含任何适当的绝缘材料，以提供保护效果。 据此，所形成的具有色彩的壳体的维氏硬度(Vickers hardness)可大于等于500HV。请参阅图3及图4，当基材1的待镀膜表面包含平滑区域时，本发明所提供的色彩 层3于平滑区域中呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标可介于81. 76至83. 76， a*坐标可介于-0. 63至0. 37，而b*坐标可介于-1. 04至0. 04。请参阅图5，且一并参阅图1与图2，本发明具有色彩的壳体的表面处理方法包括 以下步骤首先，形成一行动电话外壳的基材1，基材1由不锈钢等金属材料或是玻璃等陶 瓷材料制成。形成基材1后可进一步对基材1进行表面处理，以满足外壳的外观色质需要， 或可进一步调整基材1的平整度使后续形成于其表面上的色彩层3具有高附着性。其次，于基材1表面上的预定位置形成一色彩层3，例如色彩层3的材料较佳包含 氮化铬。实际生产中可以采用物理气相沉积制程溅镀的方法于基材1的表面上形成色彩层 3，以基材1为基材，利用一铬靶材溅镀，采用射频(RF)能量源激发氩气电浆以27至33标 准立方公分每分钟(standard cubic centimeter per minute, sccm)的流量冲击革巴材，使 靶材表面的材质喷溅出来，沉积至基材1表面。于本发明的较佳实施例中，形成色彩层3的物理气相沉积制程轰击铬靶材的功率 介于18至22千瓦，物理气相沉积制程的偏压介于180至220伏特，物理气相沉积制程的制 程温度介于摄氏180至220度，物理气相沉积制程的制程时间介于M至66分钟，物理气相 沉积制程的制程压力介于3. 771至4. 609毫托耳，基材于物理气相沉积制程中的公转转速 介于2. 7至3. 3转速每分钟(revolution per minute, rpm)，基材于物理气相沉积制程中 的自转转速介于-3. 3至-2. 7rpm，其中自转的负值代表与公转的转向相反。针对制程气体 流量部份，物理气相沉积制程包括提供氩气与氮气，其中氩气的流量介于27至33sCCm，氮 气的流量介于450至550sccm。根据上述流程步骤，本发明可于基材1上形成所需的特定色彩与金属质感。如前 所述，前述流程步骤所形成的色彩层3的色度坐标(L*，a*，b*)为(81. 76^83. 76,-0. 63、. 37，-1. 04^-0. 04)，此为习知具有色彩的壳体所无法提供的色彩范围。其后，可选择性于色彩层3的表面形成一覆盖层4。覆盖层4可包含任何适当的绝 缘材料，以提供保护效果。可以理解，本发明具有色彩的壳体的较佳实施例同样适用于笔记型计算机、个人 数字助理等其它种类的电子装置，或是任何需具有特定色彩与金属质感的装置。使用装配 有本发明具有色彩的壳体的较佳实施例的行动电话时，覆盖于结合层表面的色彩层可提供 特定色彩的金属质感，以满足外壳的外观色质需要，从而形成具有丰富色彩与良好金属质 感的装置。综上所述，本发明符合发明专利的要件，爰依法提出专利申请。惟，以上所述者仅 为本发明的较佳实施例，自不能以此限制本案的权利要求范围。举凡熟悉本案技艺的人士，于援依本案发明精神所作的等效修饰或变化，皆应包括于权利要求范围内。
权利要求
1.一种具有色彩的壳体，其特征在于一基材，所述基材的表面包含至少一平滑区域；以及一色彩层，覆盖所述基材的所述平滑区域，其中于所述平滑区域所呈现的色度区域于 CIE LAB表色系统的L*坐标介于81. 76至83. 76，a*坐标介于-0. 63至0. 37，而b*坐标介 于-1. 04 至 0. 04。
2.如权利要求1所述的具有色彩的壳体，其特征在于所述基材为金属材料或陶瓷材料。
3.如权利要求1所述的具有色彩的壳体，其特征在于所述色彩层包含氮化铬。
4.如权利要求3所述的具有色彩的壳体，其特征在于所述色彩层系于一物理气相沉积 制程中利用一铬靶材所形成。
5.如权利要求1所述的具有色彩的壳体，其特征在于所述具有色彩的壳体的维氏硬度 (Vickers hardness)大于等于 500HV。
6.如权利要求1所述的具有色彩的壳体，其特征在于所述基材的表面更包含一雾状区 域，所述色彩层覆盖所述雾状区域。
7.如权利要求1所述的具有色彩的壳体，其特征在于所述基材的表面更包含多数个拉 丝状微结构，所述色彩层覆盖所述些拉丝状微结构。
8.一种具有色彩的壳体的表面处理方法，其特征在于提供一基材；以及形成一色彩层，覆盖所述基材的表面，其特征在于所述色彩层呈现的色度区域于 CIELAB表色系统的L*坐标介于81. 76至83. 76，a*坐标介于-0. 63至0. 37，而b*坐标介 于-1. 04 至 0. 04。
9.如权利要求8所述的表面处理方法，其特征在于所述基材为金属材料与陶瓷材料。
10.如权利要求8所述的表面处理方法，其特征在于形成所述色彩层的步骤包含一物 理气相沉积制程。
11.如权利要求10所述的表面处理方法，其特征在于所述物理气相沉积制程包含利用 一铬靶材进行溅镀，而所述色彩层包含氮化铬。
12.如权利要求11所述的表面处理方法，其特征在于所述物理气相沉积制程轰击所述 铬靶材的功率介于18至22千瓦。
13.如权利要求11所述的表面处理方法，其特征在于所述物理气相沉积制程轰击所述 铝靶材的功率介于27至33千瓦。
14.如权利要求10所述的表面处理方法，其特征在于所述物理气相沉积制程的偏压介 于180至220伏特。
15.如权利要求10所述的表面处理方法，其特征在于所述物理气相沉积制程的制程温 度介于摄氏180至220度。
16.如权利要求10所述的表面处理方法，其特征在于所述物理气相沉积制程的制程时 间介于54至66分钟。
17.如权利要求10所述的表面处理方法，其特征在于所述物理气相沉积制程的制程压 力介于3. 771至4. 609毫托耳。
18.如权利要求10所述的表面处理方法，其特征在于所述物理气相沉积制程包括提供氩气，且氩气的流量介于27至33标准立方公分每分钟(standard cubiccentimeter per minute, sccm)。
19.如权利要求10所述的表面处理方法，其特征在于所述物理气相沉积制程包括提供 氮气，且氮气的流量介于450至550 sccm。
20.如权利要求10所述的表面处理方法，其特征在于所述基材于所述物理气相沉积制 程中的公转转速介于2. 7至3. 3转速每分钟(revolution per minute, rpm)
21.如权利要求10所述的表面处理方法，其特征在于所述基材于所述物理气相沉积制 程中的自转转速介于-3. 3至-2. 7rpm。
全文摘要
一种具有色彩的壳体及其表面处理方法，包含基材与色彩层。基材的表面包含至少一平滑区域，而色彩层覆盖基材的平滑区域，其中色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于81.76至83.76，a*坐标介于-0.63至0.37，而b*坐标介于-1.04至0.04。
文档编号H05K5/00GK102137571SQ201010300808
公开日2011年7月27日 申请日期2010年1月27日 优先权日2010年1月27日
发明者凌维成, 吴佳颖, 廖名扬, 张庆州, 洪新钦, 王仲培, 简士哲, 蔡泰生, 陈杰良, 魏朝沧, 黄建豪 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司