专利名称：树脂组合物及使用其的显示装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种树脂组合物。更详细而言，本发明涉及适用于半导体元件的表面保护膜及层间绝缘膜、有机场致发光(Electroluminescence 以下记作EL)元件的绝缘层、 使用了有机EL元件的显示装置的驱动用薄膜晶体管(Thin Film Transistor 以下记作 TFT)基板的平整膜、电路基板的布线保护绝缘膜、固体摄像元件的单片微透镜及各种显示器·固体摄像元件用平整膜、电路基板用阻焊膜等用途的树脂组合物。
背景技术：
将含有聚酰亚胺及聚苯并噁唑的组合物固化得到的固化膜被广泛用于半导体元件及显示装置的绝缘膜、保护膜及平整膜等。特别是在显示装置中，例如在有机EL显示器的绝缘层及液晶显示器的黑矩阵等用途中，为了提高对比度要求降低固化膜的透射率。另外，为了防止因光进入到显示装置的驱动用TFT中导致的错误动作、及漏电流等，对于设置于有机EL显示器的绝缘层及有机EL显示器的TFT基板上的平整膜而言，也要求降低透射率。作为降低固化膜中波长大于400nm的可见光区域的透射率的技术，例如可以举出下述方法在树脂组合物中添加炭黑、有机·无机颜料及染料等着色剂以使能够观察到液晶显示器用黑矩阵材料及RGB糊状材料等。由于含有上述着色剂的树脂组合物在400 450nm 的曝光波长区域存在吸收，所以难以用作使光到达膜底部并进行感光化的正型感光性树脂组合物，通常用作使膜从表面进行光固化的负型感光性树脂组合物。作为降低固化膜的透射率的技术，正型感光性树脂组合物中，包括例如含有碱性可溶性树脂、醌二叠氮化合物、及无色型色素和显色剂等显色组合物的正型放射线性树脂组合物(例如参见专利文献1)；预先添加有加热时变为黑色的热敏性材料的感光性树脂(例如参见专利文献幻；含有碱性可溶性树脂、醌二叠氮化合物、通过加热进行显色在 350nm以上700nm以下显示出最大吸收的热显色性化合物、及在350nm以上、小于500nm不具有最大吸收而在500nm以上750nm以下具有最大吸收的化合物的正型感光性树脂组合物 (例如参见专利文献幻等。上述技术通过使用利用热等能量进行显色的显色性化合物，保持固化前的树脂膜在曝光波长区域中的透射率为高水平、同时降低固化膜的透射率。因此， 可以赋予树脂组合物正型、负型两者的感光性，较为常用。专利文献1 日本特开2008-122501号公报专利文献2 日本特开平10-170715号公报专利文献3 美国专利申请公开第2004/197703号说明书
发明内容
显色性化合物为其本身因热而引起分子内结构变化，在特定波长区域表现出吸收的化合物。最近，为了进一步提高常用性，人们期望不仅通过显色性化合物、通过其他方法也能够在曝光波长区域表现吸收的树脂组合物。因此，本发明的目的在于提供一种通过特定的化合物的组合，可以维持固化前树脂膜的透射率，同时降低固化膜在可见光区域中的透射率的树脂组合物。S卩，本发明为一种树脂组合物，其特征在于，含有(a)聚酰亚胺、聚苯并噁唑、聚酰亚胺前体或聚苯并噁唑前体；(b) 1，5- 二羟基萘、1，6- 二羟基萘、1，7- 二羟基萘或2，3- 二羟基萘；及(c)具有下述通式(1)表示的结构的热交联剂或具有下述通式( 表示的基团的热交联剂。
权利要求
1. 一种树脂组合物，含有(a)聚酰亚胺、聚苯并噁唑、聚酰亚胺前体或聚苯并噁唑前体；(b) 1，5- 二羟基萘、1，6- 二羟基萘、1，7- 二羟基萘或2，3- 二羟基萘；及(c)具有下述通式(1)表示的结构的热交联剂或具有下述通式( 表示的基团的热交联剂，
2.一种正型感光性树脂组合物，是在权利要求1所述的树脂组合物中进一步含有(d) 光酸产生剂得到的。
3.一种负型感光性树脂组合物，是在权利要求1所述的树脂组合物中进一步含有(e) 光聚合引发剂及(f)具有2个以上乙烯性不饱和键的化合物得到的。
4.如权利要求1 3中任一项所述的树脂组合物，厚度为3.0 μ m的膜在固化前后的波长450nm处的光的透射率变化量为20%以上。
5.一种显示装置，依次包括形成有薄膜晶体管的基板、将权利要求1 4中任一项所述的树脂组合物固化得到的平整膜及/或绝缘层、及显示元件。
6.如权利要求5所述的显示装置，其中，所述显示元件为有机场致发光元件。
全文摘要
本发明的树脂组合物的特征在于，含有(a)聚酰亚胺、聚苯并噁唑、聚酰亚胺前体或聚苯并噁唑前体；(b)1，5-二羟基萘、1，6-二羟基萘、1，7-二羟基萘或2，3-二羟基萘；及(c)具有特定结构的热交联剂。根据本发明的树脂组合物，可以维持固化前的树脂膜的透射率，同时可以降低固化膜在可见光区域中的透射率。
文档编号H05B33/12GK102227474SQ201080003283
公开日2011年10月26日 申请日期2010年1月15日 优先权日2009年1月29日
发明者三好一登, 富川真佐夫, 越野美加 申请人:东丽株式会社