专利名称：单晶炉的热屏的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种单晶炉的热屏，属于单晶硅的生产制造设备技术领域。
背景技术：
单晶硅是具有完整的点阵结构的晶体，是一种良好的半导体材料，目前被广泛用于半导体器件以及太阳能电池的制造。现有的单晶硅制造设备为单晶炉，其主要包括炉底、下炉体、上炉体、上炉盖、隔离阀和副炉六大部分组成。其中下炉体中固定有热屏，用于对放入其内部的单晶硅进行加热。热屏在加热过程中需要保持较高的温度，然而以往单晶炉热屏仅由内热屏层和外热屏层两层组成，其的保温效果较差，导致单晶硅的生产受到影响。
发明内容
本发明的目的在于克服上述不足，提供一种能够保证单晶硅正常生产，保温效果较好的单晶炉的热屏。本发明的目的是这样实现的:
本发明单晶炉的热屏，内热屏层和外热屏层，所述内热屏层和外热屏层之间设有保温层。所述保温层为软毡。这种单晶炉的热屏具有以下优点:
这种单晶炉的热屏在内热屏层和外热屏层之间增设了保温层，该保温层的材料为软毡，其导热系数小，隔热性能好，使得内热屏层的温度不易传到外热屏层上，从而提高了热屏的保温性能，保证了单晶硅的正常生产。
图1为本发明单晶炉的热屏的结构示意图。图中:内热屏层1、外热屏层2、保温层3。
具体实施例方式参见图1，本发明涉及的一种单晶炉的热屏，包括内热屏层I和外热屏层2，所述内热屏层I和外热屏层2之间设有保温层3，该保温层3为软毡，其导热系数较低，隔热性能好，使得内热屏层I的温度不易传到外热屏层2上，从而提高了热屏的保温性能，保证了单晶娃的正常生广。
权利要求
1.一种单晶炉的热屏，其特征在于:它内热屏层(I)和外热屏层(2)，所述内热屏层(I)和外热屏层(2 )之间设有保温层(3 )。
2.根据权利要求1所 述的一种单晶炉的热屏，其特征在于:所述保温层(3)为软毡。
全文摘要
本发明涉及一种单晶炉的热屏，属于单晶硅的生产制造设备技术领域。一种单晶炉的热屏，其特征在于它内热屏层(1)和外热屏层(2)，所述内热屏层(1)和外热屏层(2)之间设有保温层(3)。所述保温层(3)为软毡。这种单晶炉的热屏在内热屏层和外热屏层之间增设了保温层，该保温层的材料为软毡，其导热系数小，隔热性能好，使得内热屏层的温度不易传到外热屏层上，从而提高了热屏的保温性能，保证了单晶硅的正常生产。
文档编号C30B15/14GK103184509SQ20111045527
公开日2013年7月3日 申请日期2011年12月31日 优先权日2011年12月31日
发明者汤仁兴 申请人:汤仁兴