一种电磁屏蔽透明薄膜的制作方法

本实用新型涉及一种透明薄膜，特别是涉及一种电磁屏蔽透明薄膜，属于高分子材料技术领域。

背景技术：

电子设备视窗、计算机显示器、仪器仪表的显示器等很多电子产品，在进行产品的emc/emi测试时，往往产品无法满足的电磁辐射和抗电磁辐射的要求，这就需要对产品的透光部分采取屏蔽措施。还有通过玻璃窗进行远程窃听的泄密威胁，这种窃听技术能够在遥远距离外，通过激光麦克风等复杂的技术，从电脑、打印机和pda等电子设备上截获电子泄漏，窃取信息。

为解决这类问题，最简单而行之有效的方法就是在其上铺设一层电磁屏蔽薄膜，即可屏蔽电磁波又可透光透明，主要用于汽车、显示器、仪器仪表视窗、会议室、机房、实验室及家庭的玻璃门窗等。

技术实现要素：

本实用新型针对上述技术问题，目的在于提供一种电磁屏蔽透明薄膜，在基膜层的一侧设纤维屏蔽层，另一侧设有金属层以及金属氧化物层，以达到屏蔽电磁波信号的目的。

本实用新型采用的技术方案是一种电磁屏蔽透明薄膜，包括基膜层、设置在所述基膜层一侧的屏蔽层以及设置在所述基膜层一侧的绝缘层，所述基膜层为镭射模压聚酯薄膜，所述屏蔽层包括若干层银纳米线导电层，任意相邻两层银纳米线导电层之间均设有金属氧化物层，所述金属氧化物层与相邻的银纳米线导电层之间填充有纳米金属粒子，所述绝缘层为纤维层。

在上述任一方案中优选的是，所述镭射模压聚酯薄膜的厚度为100-600纳米。

在上述任一方案中优选的是，所述包括基膜层与所述屏蔽层之间设有胶层。

在上述任一方案中优选的是，所述胶层为无机胶粘剂层或丙烯酸酯胶层。

在上述任一方案中优选的是，所述屏蔽层的厚度为300-1500纳米。

在上述任一方案中优选的是，所述绝缘层的厚度为80-350纳米。

在上述任一方案中优选的是，所述绝缘层为多孔碳纤维屏蔽毡层、碳纤维毡多层复合层、碳纤维毡-玻璃纤维毡夹层复合层、碳纤维单向纱复合层或碳纤维方格布复合层。

本实用新型的有益技术效果：按照本实用新型的防紫外线胶带基膜，本实用新型提供的防紫外线胶带基膜，基膜层能够满足一定透光要求的透明贴膜，在基膜层的一侧设置银纳米线导电层以及金属氧化物层，当电磁波的传播路径遇到电磁屏蔽层，它会改变电磁波的传输方向，有效阻断无线电波、红外、紫外等各种电磁波的传播，从而能阻断电磁辐射的干扰影响，确保设备正常工作，也可以避免人员遭受电磁辐射的影响。

附图说明

图1为按照本实用新型的一种电磁屏蔽透明薄膜整体结构示意图。

图中：1-基膜层，2-屏蔽层，3-绝缘层，4-胶层，21-银纳米线导电层，22-金属氧化物层。

具体实施方式

为使本领域技术人员更加清楚和明确本实用新型的技术方案，下面结合实施例及附图对本实用新型作进一步详细的描述，但本实用新型的实施方式不限于此。

实施例1

如图1所示，本实施例提供的电磁屏蔽透明薄膜，电磁屏蔽透明薄膜，包括基膜层1、设置在基膜层1一侧的屏蔽层2以及设置在基膜层1一侧的绝缘层3。

进一步的，如图1所示，基膜层1为镭射模压聚酯薄膜。

进一步的，如图1所示，屏蔽层2包括若干层银纳米线导电层21，银纳米线由于具有优良的导电性和柔韧性，银纳米线层表面导电性能不均一，且银纳米线之间的电学连接不够有效，因此在任意相邻两层银纳米线导电层21之间均设有金属氧化物层22，金属氧化物层22与相邻的银纳米线导电层21之间填充有纳米金属粒子，用于增强银纳米线之间电学的有效连接，从而提高电磁屏蔽效果。

进一步的，如图1所示，绝缘层为多孔碳纤维屏蔽毡层、碳纤维毡多层复合层、碳纤维毡-玻璃纤维毡夹层复合层、碳纤维单向纱复合层或碳纤维方格布复合层，可以利用碳纤维以及碳纤维的各向异性来实现屏蔽效果，获得最大的屏蔽效能防止电磁干扰，获得最高的吸收功率降低电磁污染。

进一步的，如图1所示，镭射模压聚酯薄膜的厚度为200纳米。

进一步的，如图1所示，包括基膜层1与屏蔽层2之间设有胶层4，胶层4为无机胶粘剂层或丙烯酸酯胶层。

进一步的，如图1所示，屏蔽层2的厚度为500纳米。

进一步的，如图1所示，绝缘层3的厚度为120纳米。

进一步的，如图1所示，绝缘层为多孔碳纤维屏蔽毡层或碳纤维方格布复合层。

进一步的，本实施例提供的电磁屏蔽透明薄膜的表面电阻率：12欧姆/平方，透明度：65％，屏蔽性能：27db/10mhz，屏蔽效果达到se-1级别，可以用于电场和平面波的屏蔽和需要接地或抗静电等场合，特别适用于高透明度和中等屏蔽性能的机箱透明窗口，如仪表表盘、液晶显示器、指示灯面板、高分辨彩色显示器等。

实施例2

如图1所示，本实施例提供的电磁屏蔽透明薄膜，电磁屏蔽透明薄膜，包括基膜层1、设置在基膜层1一侧的屏蔽层2以及设置在基膜层1一侧的绝缘层3，基膜层1为镭射模压聚酯薄膜，屏蔽层2包括若干层银纳米线导电层21，任意相邻两层银纳米线导电层21之间均设有金属氧化物层22，金属氧化物层22与相邻的银纳米线导电层21之间填充有纳米金属粒子，绝缘层3为碳纤维层。

进一步的，如图1所示，镭射模压聚酯薄膜的厚度为300纳米。

进一步的，如图1所示，包括基膜层1与屏蔽层2之间设有胶层4，胶层4为无机胶粘剂层或丙烯酸酯胶层。

进一步的，如图1所示，屏蔽层2的厚度为800纳米。

进一步的，如图1所示，绝缘层3的厚度为250纳米。

进一步的，如图1所示，绝缘层为碳纤维毡多层复合层、碳纤维毡-玻璃纤维毡夹层复合层或碳纤维单向纱复合层。

进一步的，本实施例提供的电磁屏蔽透明薄膜的表面电阻率：24欧姆/平方，透明度：60％，屏蔽性能：28db/1ghz，屏蔽效果达到se-3级别，可以用于磁场强度较高较高的场合，特别适用于辐射强度高的实验室设备和医疗设备。

综上所述，按照本实用新型的防紫外线胶带基膜，本实用新型提供的防紫外线胶带基膜，镭射模压聚酯薄膜能够满足一定透光要求的透明贴膜，屏蔽层设置银纳米线导电层与金属氧化物层之间填充纳米金属粒子，当电磁波的传播路径遇到电磁屏蔽层，它会改变电磁波的传输方向，有效阻断无线电波、红外、紫外等各种电磁波的传播，从而能阻断电磁辐射的干扰影响，确保设备正常工作，也可以避免人员遭受电磁辐射的影响。

以上所述，仅为本实用新型进一步的实施例，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型所公开的范围内，根据本实用新型的技术方案及其构思加以等同替换或改变，都属于本实用新型的保护范围。

技术特征：

1.一种电磁屏蔽透明薄膜，其特征在于，包括基膜层(1)、设置在所述基膜层(1)一侧的屏蔽层(2)以及设置在所述基膜层(1)一侧的绝缘层(3)，所述基膜层(1)为镭射模压聚酯薄膜，所述屏蔽层(2)包括若干层银纳米线导电层(21)，任意相邻两层银纳米线导电层(21)之间均设有金属氧化物层(22)，所述金属氧化物层(22)与相邻的银纳米线导电层(21)之间填充有纳米金属粒子，所述绝缘层(3)为纤维层。

2.根据权利要求1所述的一种电磁屏蔽透明薄膜，其特征在于，所述镭射模压聚酯薄膜的厚度为100-600纳米。

3.根据权利要求1所述的一种电磁屏蔽透明薄膜，其特征在于，所述基膜层(1)与所述屏蔽层(2)之间设有胶层(4)。

4.根据权利要求3所述的一种电磁屏蔽透明薄膜，其特征在于，所述胶层(4)为无机胶粘剂层或丙烯酸酯胶层。

5.根据权利要求1所述的一种电磁屏蔽透明薄膜，其特征在于，所述屏蔽层(2)的厚度为300-1500纳米。

6.根据权利要求1所述的一种电磁屏蔽透明薄膜，其特征在于，所述绝缘层(3)的厚度为80-350纳米。

7.根据权利要求1所述的一种电磁屏蔽透明薄膜，其特征在于，所述绝缘层(3)为多孔碳纤维屏蔽毡层、碳纤维毡多层复合层、碳纤维毡-玻璃纤维毡夹层复合层、碳纤维单向纱复合层或碳纤维方格布复合层。

技术总结
本实用新型公开了一种电磁屏蔽透明薄膜，属于高分子材料技术领域，包括包括基膜层、设置在基膜层一侧的屏蔽层以及设置在基膜层一侧的绝缘层，基膜层为镭射模压聚酯薄膜，屏蔽层包括若干层银纳米线导电层，任意相邻两层银纳米线导电层之间均设有金属氧化物层，金属氧化物层与相邻的银纳米线导电层之间填充有纳米金属粒子，绝缘层为多孔碳纤维屏蔽毡层。本实用新型在基膜层的一侧设纤维屏蔽层，另一侧设有金属层以及金属氧化物层，以达到屏蔽电磁波信号的目的。

技术研发人员：刘素荣
受保护的技术使用者：江苏丰远新材料科技有限公司
技术研发日：2020.04.03
技术公布日：2020.12.22