光学层叠体、光学层叠体的制造方法、光学构件、光学装置、光学构件的制造方法及光学装置的制造方法与流程

本发明涉及光学层叠体、光学层叠体的制造方法、光学构件、光学装置、光学构件的制造方法及光学装置的制造方法。

背景技术：

1、在光学器件中，例如，利用了低折射率的空气层作为全反射层。具体而言，例如，液晶器件中的各光学膜构件(例如，导光板和反射板)夹隔着空气层而层叠。然而，如果各构件间被空气层隔开，则特别是在构件为大型的情况下等，有可能会引起构件的挠曲等问题。另外，由于器件薄型化的趋势，期望各构件的一体化。因此，已进行了利用粘合粘接剂将各构件一体化而不在其间夹隔空气层(例如专利文献1)。然而，如果没有发挥全反射作用的空气层，则有可能会导致漏光等光学特性降低。

2、为此，已提出了使用低折射率层来代替空气层。例如，在专利文献2中记载了在导光板与反射板之间插入折射率比导光板低的层的结构。作为低折射率层，例如，为了使折射率尽可能达到接近于空气的低折射率，可使用具有空隙的空隙层。

3、进一步，为了将空隙层导入器件中，还提出了与粘合粘接层的一体构成(专利文献3)。

4、现有技术文献

5、专利文献

6、专利文献1：日本特开2012-156082号公报

7、专利文献2：日本特开平10-62626号公报

8、专利文献3：日本特开2014-46518号公报

技术实现思路

1、发明所要解决的问题

2、然而，如果在空隙层上直接形成粘合粘接层等，则存在粘合剂、粘接剂等浸透至上述空隙层的空隙中、导致上述空隙层的空隙率降低的隐患。空隙层越为高空隙率，越容易发生粘合剂、粘接剂等向上述空隙的浸透。并且，存在着会由于上述空隙层的空隙率的降低而导致上述空隙层的折射率上升、变得无法作为低折射率层发挥功能的隐患。

3、为此，本发明的目的在于提供不易使粘合剂、粘接剂等浸透至空隙层的空隙的光学层叠体、光学层叠体的制造方法、光学构件、光学装置、光学构件的制造方法及光学装置的制造方法。

4、解决问题的方法

5、为了实现上述目的，本发明的光学层叠体包含：

6、空隙层、和

7、形成于上述空隙层上的低透湿层，

8、上述低透湿层包含选自金属、金属氧化物、硅、硅氧化物及有机无机杂化材料中的至少一种，并且，通过jis z 0208-1976中规定的杯式法测定的该低透湿层的水蒸气透过率为35g/m2·day以下。

9、本发明的光学层叠体的制造方法是制造上述本发明的光学层叠体的方法，该方法包括：

10、在上述空隙层的至少一面上形成上述低透湿层的低透湿层形成工序，

11、在上述低透湿层形成工序中，通过选自真空蒸镀法、溅射法及化学气相沉积法(cvd)中的至少一种方法形成上述低透湿层。

12、本发明的光学构件包含上述本发明的光学层叠体。

13、本发明的光学装置包含上述本发明的光学构件。

14、本发明的光学构件的制造方法是上述本发明的光学构件的制造方法，该方法包括：通过上述本发明的光学层叠体的制造方法制造上述本发明的光学层叠体的光学层叠体制造工序。

15、本发明的光学装置的制造方法是上述本发明的光学装置的制造方法，该方法包括：通过上述本发明的光学构件的制造方法制造上述本发明的光学构件的光学构件制造工序。

16、发明的效果

17、根据本发明，可提供不易使粘合剂、粘接剂等浸透至空隙层的空隙的光学层叠体、光学层叠体的制造方法、光学构件、光学装置、光学构件的制造方法及光学装置的制造方法。

技术特征：

1.一种光学层叠体，其包含：

2.根据权利要求1所述的光学层叠体，其中，

3.根据权利要求1或2所述的光学层叠体，其中，

4.根据权利要求1～3中任一项所述的光学层叠体，其中，

5.根据权利要求1～4中任一项所述的光学层叠体，其中，

6.根据权利要求1～5中任一项所述的光学层叠体，其中，

7.根据权利要求1～6中任一项所述的光学层叠体，其还包含粘合粘接层。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的光学层叠体，其中，

9.根据权利要求1～8中任一项所述的光学层叠体，其雾度值小于10％。

10.一种光学层叠体的制造方法，其是制造权利要求1～9中任一项所述的光学层叠体的方法，该方法包括：

11.一种光学构件，其包含权利要求1～9中任一项所述的光学层叠体。

12.一种光学装置，其包含权利要求11所述的光学构件。

13.一种光学构件的制造方法，其是制造权利要求11所述的光学构件的方法，该方法包括：

14.一种光学装置的制造方法，其是制造权利要求12所述的光学装置的方法，该方法包括：

技术总结
本发明的目的在于提供不易使粘合剂、粘接剂等浸透至空隙层的空隙的光学层叠体。为了实现上述目的，本发明的光学层叠体(10a)或(10b)包含空隙层(12)、和形成于空隙层(12)上的低透湿层(13)，低透湿层(13)包含选自金属、金属氧化物、硅、硅氧化物及有机无机杂化材料中的至少一种，并且，通过JIS Z 0208‑1976中规定的杯式法测定的该低透湿层的水蒸气透过率为35g/m<supgt;2</supgt;·day以下。

技术研发人员：森岛谅太,服部大辅,吉川贵博
受保护的技术使用者：日东电工株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/1/16