偏振板的制造方法与流程

本发明涉及偏振板的制造方法。

背景技术：

1、一直以来，已知有使用活性能量射线固化型粘接剂将包含经拉伸的聚乙烯醇膜(拉伸pva)的偏振片的膜与包含相位差板的膜贴合的偏振板的制造方法。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2014-48496号公报

技术实现思路

1、发明要解决的课题

2、作为偏振片，考虑使用包含取向了的聚合性液晶化合物的固化物和二色性色素的偏振片，而不是拉伸pva。

3、然而，本发明人等发现，在将包含这样的特定的偏振片的膜与包含相位差板等光学功能层的膜用活性能量射线固化型树脂粘接的情况下，所得到的偏振板的透射率降低。

4、本发明是鉴于上述课题而完成的，其目的在于提供一种偏振板的制造方法，即使在使用包含取向了的聚合性液晶化合物的固化物和二色性色素的偏振片的情况下，透射率的降低抑制也优异。

5、用于解决课题的手段

6、本发明的一个方面的偏振板的制造方法具备：

7、将活性能量射线固化型粘接剂涂敷于包含光学功能层的第1膜的表面的工序；

8、经由所涂布的上述活性能量射线固化型粘接剂，将上述包含光学功能层的第1膜贴合于包含偏振片的第2膜的表面而得到层叠体的工序；以及

9、在将上述第1膜与上述第2膜贴合之后2～8秒之间开始对上述层叠体中的上述粘接剂照射活性能量射线，得到上述活性能量射线固化型粘接剂的固化物层的工序。上述偏振片包含取向了的聚合性液晶化合物的固化物和二色性色素。

10、在该方法中，上述第2膜可以从与上述第1膜贴合的一侧的表面起依次包含外涂层和上述偏振片。

11、上述活性能量射线固化型粘接剂可以包含阳离子聚合性化合物和光阳离子聚合引发剂。

12、上述活性能量射线的照射量(uva区域(320～390nm)的累积光量)可以为150～800mj/cm2。

13、上述第1膜可以包含至少1个相位差板。

14、在上述方法中，可以是：上述活性能量射线包含320nm的紫外线，上述第1膜的320nm的透射率小于10％，上述第2膜的320nm的透射率为10～99％，并且，从上述第2膜向上述第1膜照射上述活性能量射线。

15、上述活性能量射线固化型粘接剂的固化物层的厚度可以为0.5～3μm。

16、在上述方法中，上述方法在上述将活性能量射线固化型粘接剂涂敷于包含光学功能层的第1膜的表面的工序之前，还具备将设置于上述第1膜的表面的剥离基材剥离的工序。

17、发明效果

18、根据本发明，可提供即使在使用包含取向了的聚合性液晶化合物的固化物和二色性色素的偏振片的情况下，透射率的降低抑制也优异的偏振板的制造方法。

技术特征：

1.一种偏振板的制造方法，其具备：

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第2膜从与所述第1膜贴合的一侧的表面起依次包含外涂层和所述偏振片。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述活性能量射线固化型粘接剂包含阳离子聚合性化合物和光阳离子聚合引发剂。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的方法，其中，所述活性能量射线的照射量为150mj/cm2～800mj/cm2。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的方法，其中，所述第1膜包含至少1个相位差板。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的方法，其中，所述活性能量射线包含320nm的紫外线，所述第1膜的320nm的紫外线的透射率小于10％，所述第2膜的320nm的紫外线的透射率为10％～99％，从所述第2膜向所述第1膜照射所述活性能量射线。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的方法，其中，所述活性能量射线固化型粘接剂的固化物层的厚度为0.5μm～3μm。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的方法，其在所述将活性能量射线固化型粘接剂涂敷于包含光学功能层的第1膜的表面的工序之前，还具备将设置于所述第1膜的表面的剥离基材剥离的工序。

技术总结
本发明提供一种即使在使用了包含取向了的聚合性液晶化合物的固化物和二色性色素的偏振片的情况下，透射率也优异的偏振板的制造方法。偏振板的制造方法具备：在包含光学功能层的第1膜(10)的表面涂敷活性能量射线固化型粘接剂的工序；经由所涂布的活性能量射线固化型粘接剂将包含光学功能层的第1膜(10)贴合于包含偏振片的第2膜(20)的表面而得到层叠体(30)的工序；以及在将第1膜(10)与第2膜(20)贴合之后2～8秒之间开始对层叠体(30)中的粘接剂照射活性能量射线而使粘接剂固化的工序。偏振片包含取向了的聚合性液晶化合物的固化物和二色性色素。

技术研发人员：川上武志
受保护的技术使用者：住友化学株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/1/12