表面保护膜及带表面保护膜的光学构件的制作方法

本发明涉及表面保护膜及带表面保护膜的光学构件。

背景技术：

1、对于光学构件(例如显示器、摄像装置)、电子构件的表面，有时为了保护表面而贴合表面保护膜。作为表面保护膜，包括在各种构件的制造工序及运送工序中暂时性地临时粘贴并在使用各种构件前被剥离的表面保护膜(用作工序材料的表面保护膜)、以及以保持着贴合于各种构件的表面的状态而被使用的表面保护膜(以永久粘接为目的的表面保护膜)(例如，参照专利文献1)。

2、用作工序材料的表面保护膜及以永久粘接为目的的表面保护膜均在基材的主面具备有用于粘贴于保护对象的表面的粘接层(例如，参照专利文献2)。

3、已探讨了在粘贴有这样的表面保护膜的状态下对各种构件进行检查。然而，在将粘贴有表面保护膜的各种构件供于检查异物的有无的异物检查、检查气泡的有无的气泡检查时，有时会发生由表面保护膜引起的误检测，无法准确地对各种构件进行检查。

4、现有技术文献

5、专利文献

6、专利文献1：日本专利第6899339号公报

7、专利文献2：日本特开2013-79360号公报

技术实现思路

1、发明所要解决的问题

2、本发明是为了解决上述现有的问题而完成的，其主要目的在于提供即使在贴合于保护对象的状态下供于异物检查及气泡检查也能够实现对保护对象的准确检查的表面保护膜。

3、解决问题的方法

4、本发明的实施方式的表面保护膜具备：基材、和层叠于上述基材的粘接层。上述粘接层的与基材相反侧的表面的最大谷深(sv)的绝对值为500nm以下，对上述基材进行显微镜观察时，在100μm×100μm的观察区域中，最大费雷特直径为10μm以上的缺陷数少于3个。

5、在一个实施方式中，上述粘接层的与基材相反侧的表面的算术平均高度(sa)的绝对值为25nm以下。

6、在一个实施方式中，对上述表面保护膜进行显微镜观察时，在100μm×100μm的观察区域中，最大费雷特直径为10μm以上的缺陷数少于3个。

7、在一个实施方式中，对上述表面保护膜进行显微镜观察时，在100μm×100μm的观察区域中，最大费雷特直径小于10μm的缺陷数为5个以下。

8、在一个实施方式中，基材的撕裂强度为1n/mm以上。

9、在一个实施方式中，上述粘接层含有选自(甲基)丙烯酸类粘合剂、氨基甲酸酯类粘合剂及有机硅类粘合剂中的至少1种粘合剂。

10、本发明的其它方面的带表面保护膜的光学构件具备：光学构件；和通过上述粘接层粘贴于上述光学构件的表面保护膜，该表面保护膜是上述表面保护膜。

11、发明的效果

12、根据本发明的实施方式，即使在将表面保护膜贴合于保护对象(例如光学构件)的状态下供于异物检查及气泡检查，也能够准确地对保护对象进行检查。

技术特征：

1.一种表面保护膜，其具备：

2.根据权利要求1所述的表面保护膜，其中，

3.根据权利要求1或2所述的表面保护膜，其中，

4.根据权利要求1～3中任一项所述的表面保护膜，其中，

5.根据权利要求1～4中任一项所述的表面保护膜，其中，

6.根据权利要求1～5中任一项所述的表面保护膜，其中，

7.一种带表面保护膜的光学构件，其具备：

技术总结
本发明提供即使在贴合于保护对象的状态下供于异物检查及气泡检查也能够实现对保护对象的准确检查的表面保护膜。本发明的实施方式的表面保护膜具备基材、和层叠于基材的粘接层。粘接层的与基材相反侧的表面的最大谷深(Sv)的绝对值为500nm以下，对基材进行显微镜观察时，在100μm×100μm的观察区域中，最大费雷特直径为10μm以上的缺陷数少于3个。

技术研发人员：田中卓哉,小川圭太
受保护的技术使用者：日东电工株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/9/2