增印保护膜的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种保护膜，特别涉及一种增印保护膜。
【背景技术】
[0002] 薄膜面板例如手机触摸按键，薄膜开关等产品在搬运和使用过程中，其表面容易 受到接触性污染或磨痕划伤，通常采用保护膜覆盖在其表面使之免受损伤和污染。保护膜 一般由基材层和涂覆在该基材层上的胶粘剂层构成。当保护膜用来保护各种薄膜面板例如 手机触摸按键，薄膜开关等产品的表面时，需要在保护膜上印刷文字、图案等，传统的保护 膜一般都没有经过耐磨增印处理，因此很难在保护膜上进行印刷作业；其次，增印保护膜中 离型纸与涂覆有高粘度粘合剂的贴膜贴附时，容易导致离型纸上的离型剂涂层被粘附力更 大的粘合剂带走，从而在贴膜的局部表面形成难以清理掉的离型剂涂层区域，破坏了贴膜 整体的纯净、一致性。
【发明内容】
[0003] 本发明提供一种增印保护膜，该增印保护膜使得有机硅胶面雾度效果好，使得胶 面达到低反光效果；且提高了与离型剂涂层接触的雾面涂层表面粗糙度均匀性，解决离型 纸的淋膜层与离型剂涂层结合力不稳定的技术问题，有利于剥离以及避免残留压敏胶和将 离型剂残留于压敏胶层上。
[0004] 为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：一种增印保护膜，包括一基材层，此 基材层上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂层，此基材层下表面通过有机硅压敏胶层与一雾 面离型纸粘合连接，所述雾面离型纸由第一淋膜层、离型纸原纸层、第二淋膜层、雾面涂层 和离型剂涂层依次层叠构成，所述雾面涂层朝向所述离型剂涂层的表面的表面粗糙度为 2. 821unT3. 324um;所述制备工艺主要由下列步骤组成： 第一步：在离型纸原纸的两侧表面，用淋膜机各淋膜一层淋膜层，然后冷却； 第二步：在任意一淋膜层上涂覆一层厚度为〇. 2?2微米的雾面涂层剂，该雾面涂层剂 进一步通过以下工艺获得： 步骤1.将0. 3~1份纳米Si02粉体、0. 2、. 6份纳米A1203粉体和0. 3~1份硅烷偶联剂 加入8~10份甲苯中进行超声波处理获得预分散液； 步骤2.将100份乙烯基硅氧烷、0. 3~1份含氢硅氧烷加入12CT150份丁酮中进行机械 搅拌获得聚合物溶液； 步骤3.将步骤1的预分散液、步骤2的聚合物溶液混合并依次进行机械搅拌和超声波 搅拌，从而获得调制后的聚合物溶液； 步骤4.在所述调制后的聚合物溶液加入0. 2~0. 5份钼金并依次进行机械搅拌和超声 波搅拌获得所述雾面离型溶剂； 第三步：将离型纸的雾面涂层剂通过烘烤进行聚合反应得到雾面涂层； 第四步：在所述雾面涂层的表面涂覆一层离型剂涂层。
[0005] 上述技术方案中进一步改进的技术方案如下： 1.上述方案中，所述纳米Si02粉体的直径范围为l(Tl5nm，所述纳米A1203粉体的直径 范围为25?35nm。
[0006] 2.上述方案中，所述第一、第二淋膜层的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、 聚乙烯或者聚氯乙烯。
[0007] 由于上述技术方案运用，本发明与现有技术相比具有下列优点和效果： 本发明增印保护膜，特定直径和含量的纳米Si02粉体、纳米A1203粉体在溶剂下与硅烷 偶联剂经超声波共同作用，且机械搅拌和超声波搅拌组合，有利于纳米Si02粉体、A1203粉 体呈均匀分布，特定的聚合物溶液和预分散液采用不同的溶剂，降低纳米Si02粉体、A1203 颗粒的表面能，进一步利于粉体颗粒在溶剂中的分散，提高了与离型剂涂层接触的雾面涂 层表面粗糙度均匀性，解决离型纸的淋膜层与离型剂涂层结合力不稳定的技术问题，有利 于剥离以及避免残留压敏胶和将离型剂残留于压敏胶层上。
【附图说明】
[0008] 附图1为本发明增印保护膜结构示意图； 附图2a为现有增印保护膜中雾面涂层微观形貌SEM测试图； 附图2b为本发明增印保护膜中雾面涂层微观形貌SEM测试图。
[0009] 以上附图中：1、基材层；2、增印涂层；3、有机硅压敏胶层；4、雾面离型纸；5、第一 淋膜层；6、离型纸原纸层；7、第二淋膜层；8、雾面涂层；9、离型剂涂层。
【具体实施方式】
[0010] 下面结合附图及实施例对本发明作进一步描述： 实施例1~5 :-种增印保护膜，包括一基材层1，此基材层1上面涂覆一用于印刷油墨的 增印涂层2,此基材层1下表面通过有机硅压敏胶层3与一雾面离型纸4粘合连接，所述雾 面离型纸4由第一淋膜层5、离型纸原纸层6、第二淋膜层7、雾面涂层8和离型剂涂层9依 次层叠构成，所述雾面涂层朝向离型剂涂层的表面的表面粗糙度为2. 821unT3. 324um;所 述制备工艺主要由下列步骤组成： 第一步：在离型纸原纸的两侧表面，用淋膜机各淋膜一层淋膜层，然后冷却； 第二步：在任意一淋膜层上涂覆一层厚度为0. 2?2微米的雾面涂层剂，该雾面涂层剂 进一步通过以下工艺获得： 步骤1.将0. 3~1份纳米Si02粉体、0. 2、. 6份纳米A1203粉体和0. 3~1份硅烷偶联剂 加入8~10份甲苯中进行超声波处理获得预分散液； 步骤2.将100份乙烯基硅氧烷、0. 3~1份含氢硅氧烷加入12CT150份丁酮中进行机械 搅拌获得聚合物溶液； 步骤3.将步骤1的预分散液、步骤2的聚合物溶液混合并依次进行机械搅拌和超声波 搅拌，从而获得调制后的聚合物溶液； 步骤4.在所述调制后的聚合物溶液加入0. 2~0. 5份钼金并依次进行机械搅拌和超声 波搅拌获得所述雾面离型溶剂； 实施例1飞雾面涂层各组分重量份含量见表1。
【主权项】
1. 一种增印保护膜，包括一基材层（I )，此基材层（I)上面涂覆一用于印刷油墨的增印 涂层（2 )，此基材层（1)下表面通过有机硅压敏胶层（3 )与一雾面离型纸（4)粘合连接，其特 征在于：所述雾面离型纸（4)由第一淋膜层（5)、离型纸原纸层（6)、第二淋膜层（7)、雾面涂 层（8)和离型剂涂层（9)依次层叠构成，所述雾面涂层朝向离型剂涂层的表面的表面粗糙 度为2. 821unT3. 324um ;所述制备工艺主要由下列步骤组成： 第一步：在离型纸原纸的两侧表面，用淋膜机各淋膜一层淋膜层，然后冷却； 第二步：在任意一淋膜层上涂覆一层厚度为0. 2?2微米的雾面涂层剂，该雾面涂层剂 进一步通过以下工艺获得： 步骤1.将0. 3~1份纳米SiO2粉体、0. 2、. 6份纳米Al2O3粉体和0. 3~1份硅烷偶联剂 加入8~10份甲苯中进行超声波处理获得预分散液； 步骤2.将100份乙烯基硅氧烷、0. 3~1份含氢硅氧烷加入12(Γ150份丁酮中进行机械 搅拌获得聚合物溶液； 步骤3.将步骤1的预分散液、步骤2的聚合物溶液混合并依次进行机械搅拌和超声波 搅拌，从而获得调制后的聚合物溶液； 步骤4.在所述调制后的聚合物溶液加入0. 2~0. 5份钼金并依次进行机械搅拌和超声 波搅拌获得所述雾面离型溶剂； 第三步：将离型纸的雾面涂层剂通过烘烤进行聚合反应得到雾面涂层； 第四步：在所述雾面涂层的表面涂覆一层离型剂涂层。
2. 根据权利要求1所述的增印保护膜，其特征在于：所述纳米SiO2粉体的直径范围为 l(Tl5nm，所述纳米Al2O3粉体的直径范围为25?35nm。
3. 根据权利要求1所述的增印保护膜，其特征在于：所述第一、第二淋膜层的材质为聚 对苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、聚乙烯或者聚氯乙烯。
【专利摘要】一种增印保护膜，包括基材层、增印涂层、有机硅压敏胶层和雾面离型纸，雾面离型纸由第一淋膜层、离型纸原纸层、第二淋膜层、雾面涂层和离型剂涂层依次层叠构成，在淋膜层上涂覆一层雾面涂层剂，其通过以下工艺获得：将0.3~1份纳米SiO2粉体、0.2~0.6份纳米Al2O3粉体和0.3~1份硅烷偶联剂加入8~10份甲苯中进行超声波处理获得预分散液；将100份乙烯基硅氧烷、0.3~1份含氢硅氧烷加入120~150份丁酮中进行机械搅拌获得聚合物溶液；将预分散液、聚合物溶液混合并依次进行机械搅拌和超声波搅拌；在调制后的聚合物溶液加入0.2~0.5份铂金并依次进行机械搅拌和超声波搅拌。本发明增印保护膜使得有机硅胶面雾度效果好，使得胶面达到低反光效果；且提高了与离型剂涂层接触的雾面涂层表面粗糙度均匀性。
【IPC分类】B32B5-00, B32B37-14, B32B27-10
【公开号】CN104553101
【申请号】CN201310467015
【发明人】金闯, 张庆杰
【申请人】苏州斯迪克新材料科技股份有限公司
【公开日】2015年4月29日
【申请日】2013年10月9日