一种防辐射的耐磨透明材料的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种防辐射的耐磨透明材料。
【背景技术】
[0002]电子产品的触摸显示屏等透明材料在使用过程中还会不断产生对人体有害的电子辐射、另外太阳光中的紫外线及远红外线等，给人体造成伤害。而且现有的透明材料在使用过程中很容易被刮花或蹭花，影响美观。
【发明内容】
[0003]为了解决现有技术中的不足，本实用新型的目的在于提供一种可以防辐射的、表面具有高硬度层的耐磨的透明材料。
[0004]为实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案:
[0005]—种防辐射的耐磨透明材料，包括透明基片，所述透明基片的至少一个表面设有膜系，所述膜系从内往外依序为厚度为1-1OOnm的氧化铟锡层、厚度为10-50nm的高硬度层。
[0006]所述透明基片的两个表面均设有膜系。
[0007]所述氧化铟锡层为氧化铟锡电子枪蒸镀成型。
[0008]所述高硬度层为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体电子枪蒸镀成型。
[0009]所述透明基片为玻璃或树脂成型。
[0010]本实用新型采用以上技术方案，氧化铟锡层的设置有效的切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线，起到了防辐射的效果，此外设置高硬度层能够显著提高透明材料的耐磨性。本实用新型防辐射耐磨的透明材料可以应用作为窗户玻璃、相框表面、眼镜镜片、手机屏幕、电脑显示屏、仪表盘、照相机视窗等产品的透明面材，按照使用的需要在透明基片的一面或两面设膜系，如此产品具有防辐射和耐磨的双重功能。本实用新型设计合理，实用性强。
【附图说明】
[0011]以下结合附图和【具体实施方式】对本实用新型做进一步详细说明:
[0012]图1为本实用新型防辐射耐磨材料的一种结构分解示意图；
[0013]图2为本实用新型防辐射耐磨材料的另一种结构分解示意图。
【具体实施方式】
[0014]如图1-2之一所示，一种防辐射的耐磨透明材料，包括透明基片I，所述透明基片I的至少一个表面设有膜系，所述膜系从内往外依序为厚度为1-1OOnm的氧化铟锡层2、厚度为10-50nm的高硬度层3。
[0015]所述透明基片的两个表面均设有膜系。
[0016]所述氧化铟锡层2和4为氧化铟锡电子枪蒸镀成型。
[0017]所述高硬度层3为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体电子枪蒸镀成型。
[0018]所述透明基片I为玻璃或树脂成型。
[0019]实施例1
[0020]如图1所示，一种防辐射的耐磨透明材料，包括透明基片I，所述透明基片I的一个表面设有膜系，所述膜系从内往外依序为厚度为1-1OOnm的氧化铟锡层2、厚度为10-50nm的三氧化二铝层3。所述透明基片I为玻璃成型。
[0021]实施例2
[0022]如图2所示，一种防辐射的耐磨透明材料，包括透明基片I，所述透明基片I的两个表面均设有膜系。所述一个表面的膜系从内往外依序为厚度为1-1OOnm的氧化铟锡层2、厚度为10-50nm的氧化锆层3。另一个表面的膜系从内往外依序为厚度为1-1OOnm的氧化铟锡层4、厚度为10-50nm的二氧化硅晶体层5。所述透明基片I为树脂成型。
[0023]实施例3
[0024]如图1所示，一种防辐射的耐磨透明材料，包括透明基片I，所述透明基片I的一个表面设有膜系，所述膜系从内往外依序为厚度为1-1OOnm的氧化铟锡层2、厚度为10-50nm的一氧化硅晶体层3。所述透明基片I为玻璃成型。
【主权项】
1.一种防辐射的耐磨透明材料，包括透明基片，其特征在于:所述透明基片的至少一个表面设有膜系，所述膜系从内往外依序为厚度为1-1OOnm的氧化铟锡层、厚度为10-50nm的高硬度层。2.根据权利要求1所述的一种防辐射的耐磨透明材料，其特征在于:所述透明基片的两个表面均设有膜系。3.根据权利要求1所述的一种防辐射的耐磨透明材料，其特征在于:所述氧化铟锡层为氧化铟锡电子枪蒸镀成型。4.根据权利要求1所述的一种防辐射的耐磨透明材料，其特征在于:所述高硬度层为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体电子枪蒸镀成型。5.根据权利要求1或2所述的一种防辐射的耐磨透明材料，其特征在于:所述透明基片为玻璃或树脂成型。
【专利摘要】本实用新型公开了一种防辐射的耐磨透明材料，其包括透明基片，所述透明基片的至少一个表面设有膜系，所述膜系从内往外依序为厚度为10-100nm的氧化铟锡层、厚度为10-50nm的高硬度层。本实用新型采用以上技术方案，氧化铟锡层的设置有效的切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线，起到了防辐射的效果，此外设置高硬度层能够显著提高透明材料的耐磨性。本实用新型防辐射耐磨的透明材料可以应用作为窗户玻璃、眼镜镜片、手机屏幕、电脑显示屏、仪表盘、照相机视窗等，按照使用的需要在透明基片的一面或两面设膜系。本实用新型设计合理，实用性强。
【IPC分类】B32B27/06, B32B9/04, B32B17/06
【公开号】CN205291754
【申请号】
【发明人】吴晓彤, 方俊勇
【申请人】奥特路（漳州）光学科技有限公司
【公开日】2016年6月8日
【申请日】2015年12月31日