技术编号:10014128
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。随着半导体产品升级换代,对电子材料特别是电子化学品的纯度和有害杂质的要求越来越高,而高纯及超高纯电子化学品的规模化不仅仅是简单的提纯生产,还必须依靠分装、储存、运输、安全管理等各个环节才能实现。根据高纯及超纯电子化学品的要求,其包装容器充装高纯及超高纯化学品的需要,容器内壁的光洁度达标是其容器生产的首要条件。目前,国内外使用的内壁处理技术基本采用的抛丸打磨的方式进行处理,打磨后内壁颗粒及金属离子附着率较高,且此类物质去除方法较少,且对清洗后的容器若不及时进...
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