技术编号:10141002
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。在传统工艺中,刻蚀会根据所要刻蚀的金属厚度以及光刻胶厚度来调整刻蚀量,为了能保证所要被刻蚀的金属刻蚀干净,一般会过刻蚀。一旦过刻蚀,就要损伤到下层金属。有些工艺的金属厚度由于技术需要会很薄,所以一旦过刻蚀很多,就会影响到最终器件的性能。例如,在 AMR (Anisotropic Magneto Resistive)工艺中,MRS(Magneto ResistanceStrip)磁性薄膜材料是非常关键且薄膜厚度只有20nm左右,一旦后续BBP (Bar Be...
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