技术编号：10222985
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。镀膜室壳体是磁控溅射镀膜设备的核心部件，由于各种真空磁控溅射镀膜工艺都必须在真空室条件下进行，因此，镀膜室壳体同时又是磁控溅射镀膜设备的最关键的部件。其性能应满足基本的工艺要求，并确保基片架在室内能够稳定的运行，要求室内温度均匀，具有良好的屏蔽效果，均匀的气流，才能实现连续镀膜。所以壳体结构的设计需遵循变形最小，结构对称且简单，密封性良好，开启方便，易于靶材的安装等特点。一般真空磁控溅射镀膜室主要进行半球样品的磁控溅射镀膜，磁控靶在上、在侧和在下形成共溅射...
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