超结器件制备工艺的制作方法技术资料下载

技术编号:10536775

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超结(Super Junct1n)结构采用交替的P-N结结构取代单一导电类型材料作为漂移区,在漂移区引入了横向电场,使得器件漂移区在较小的关断电压下即可完全耗尽,击穿电压仅与耗尽层厚度及临界电场有关。因此,在相同耐压下,超结结构漂移区的掺杂浓度可以提高一个数量级,同时在同样的击穿电压下只需要更薄的EPI (外延层)作为漂移区,从而大大降低了器件的比导通电阻-Rsp,同时提高了 F0M(figUre of merit,品质因数)值。图1为一种超结器件的示意图...
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