抗蚀剂组合物及抗蚀图案的制造方法技术资料下载

技术编号:10653258

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半导体忍片的多引脚薄膜封装中,作为被称为凸点的接线端子的高度4~150皿左 右的突起电极,是通过光刻技术在基板上形成的。作为形成此类接线端子的形成方法,专利 文件1记载有如下方法使用含有树脂的抗蚀剂组合物,该树脂含有来源于对径基苯乙締的 结构单元。 现有技术文献 专利文献 专利文献1日本专利特开2011-75864号公报发明内容 发明要解决的课题 本发明的目的在于提供一种抗蚀剂组合物,其可制造形状良好、并且脱模性优异 的抗蚀图案。 〔 4)上述抗蚀剂组合...
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