技术编号：10802315
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。纳米压印技术最早于20世纪90年代中期由美国Prince ton大学Nano structureLab的Stephen Y.Chou教授等针对传统的光刻工艺受到曝光波长的限制，无法进一步获得更小尺寸这一缺点而提出的。该技术以其低成本、高分辨率、工艺过程简单等优点，引起了各国研究人员的广泛关注。目前，成功证明了通过纳米压印这项技术可获得最小尺寸为5nm的特征结构。这项技术被广泛应用在光学、电子学、生物学等众多领域，被誉为十大可改变世界的科技之一。纳米压印技术...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。