技术编号：10903981
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。目前在工业镀膜生产中，磁控溅射技术已成为主要的技术之一。相关的磁控溅射镀膜设备也发展迅速。磁控溅射靶作为镀膜系统核心部件，直接关系镀膜效果的好坏，对于整套镀膜设备的开发起到了至关重要的作用。常用的靶结构中，冷却水通过进出水法兰的对称凹陷结构实现水流的流进与流出，冷却方式采用直接水冷，通过冷却靶材基座底面实现对整个基座的冷却进而实现对靶材的冷却。使用中发现，随着溅射功率的提高，靶材温度会急剧提高，温度高达100°c甚至更高，热量的积累必然导致靶材破坏、失效，...
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