技术编号：10994453
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。目前玻璃镀膜生产的设备中大多采用平面溅射阴极靶材这种方式，其工作原理是将需镀膜的玻璃送入真空镀膜室内，真空镀膜室内通入一定高纯的氩气以及一些需要的反应气体(例如氧气、氮气、乙炔等)；当靶通电后，在空间中的游离电子会在电磁场的作用下对氩气等气体进行电离，并产生辉光放电。而氩气是由氩原子组成;氩原子电离后产生氩离子，在电磁场的作用下变成高能氩离子会向阴极靶面飞去，且与靶面原子或分子进行碰撞，溅射出靶材原子或分子等粒子，并飞向玻璃表面形成膜层;在这个过程中通入反...
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