技术编号：11023619
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。已知磁控溅射镀膜是指利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场的作用下撞向靶材表面从而溅射出靶材，沉积在玻璃基片上形成薄膜。已知现有的平面阴极有利用率较低，往往只能达到20%_30%。为了提高靶材的利用率，旋转靶材逐步被市场使用起来。但旋转靶材镀膜的均匀性并不好，内部的磁棒起到了决定性的作用。已知镀膜玻璃的均匀性对玻璃的品质起到至关重要的作用。而在生产过程中均匀性的调节一直是困饶生产的一大...
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