技术编号：11287369
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。荧光X射线分析装置相关申请本发明要求申请日为2015年8月28日、申请号为JP特愿2015—169543号申请的优先权，通过参照其整体，将其作为构成本申请的一部分的内容而进行引用。技术领域本发明涉及测定对试样照射一次X射线而产生的二次X射线的强度的扫描型的荧光X射线分析装置。背景技术过去，具有扫描型的X射线分析装置，在该扫描型的X射线分析装置中，对试样照射一次X射线，测定由试样而产生的荧光X射线等的二次X射线的强度，根据该测定强度，对比如试样的元素的含有率进行定量分析。在这样的装置中，包括与分析...
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