技术编号：11289569
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。用于处理基板的设备本发明涉及根据权利要求1的前序部分的装置和根据权利要求11的前序部分的挡板。在许多领域中，特别是在半导体领域，或者更确切地说，在太阳能电池领域中，基板特别是硅片的仅涉及其一侧的处理对于各种应用是必需的。在这样的单面工序中，与被处理的一侧相反的基板侧通常不应该受到处理的影响。在湿法工艺领域，示例性的例子有诸如湿化学边缘绝缘(通过扩散施加到背侧的寄生发射极的单面蚀刻)、抛光(纹理化的基板正面或背面的分别化学平滑化)、诸如金属覆层的电化学沉积的电流处理、或诸如基板边缘的疏水化的其他处...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。