技术编号:11380874
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及真空镀膜技术领域,尤其涉及一种适用于流水线式的自旋转立式镀膜基架及镀膜设备。背景技术由于现代科技发展的要求,真空镀膜技术得到了飞速的发展。真空镀膜技术可以改变工件表面性能,提高工件耐磨损、抗氧化和耐腐蚀等性能,从而延长工件的使用寿命。真空镀膜技术也可以实现光学、电学、半导体薄膜器件的制备,具有很高的经济价值。而磁控溅射技术可以制备各种超硬膜、耐腐蚀摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄膜以及各种具有特殊功能的薄膜,在工业薄膜制备领域的应用非常广泛。目前,产业化的磁控溅射的设备主要分为两种...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。