技术编号:11533833
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及能够进行自由基气体(radicalgas)生成,并进行利用了该自由基气体的处理的、包含电源装置的放电发生器及其电源装置,例如,能够在对被处理体成膜高性能的膜时使用。背景技术在包括半导体制造领域的多用途的领域中,寻求多功能且高品质的薄膜(例如,高绝缘薄膜、半导体薄膜、高介电薄膜、发光薄膜、高磁性体薄膜、超硬薄膜等)。例如,在半导体装置的制造的场合,在半导体芯片内,设置有相当于电路布线的低阻抗的高导电膜、具有电路的布线线圈功能或磁铁功能的高磁性膜、具有电路的电容器功能的高介电膜、以及具有漏...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
该类技术注重原理思路,无完整电路图,适合研究学习。