评价方法以及半导体装置的制造方法与流程技术资料下载

技术编号:11546714

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本发明涉及评价方法以及半导体装置的制造方法。背景技术作为半导体元件的特性之一,已知有反馈电容Crss(例如参照专利文献1)。专利文献1:日本特开2016-4935号公报发明内容技术问题优选地,半导体元件的反馈电容Crss被预先测定。例如,若在桥式电路的上下臂等中使用的多个半导体元件的反馈电容Crss中产生波动,则开关定时会产生波动,会产生上下臂短路等问题。但是,若要直接测定半导体元件的反馈电容Crss则需要花费时间。技术方案在本发明的第1实施方式中,提供评价半导体元件的反馈电容的评价方法。评价方...
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