技术编号:11570847
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本申请涉及PECVD设备技术领域,尤其涉及一种具备清洁功能的PECVD设备及清洁方法。背景技术等离子体增强化学气相沉积(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition,PECVD)法,一般用于在基板(如半导体基板、太阳能基板、有机发光二极管基板和液晶显示基板)上沉积薄膜。PECVD主要借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,进而在基板上沉积出所期望的薄膜;而该薄膜沉积过程发生在PECVD设备的真空腔室中...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。