技术编号：11619768
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及显影工艺的制程，特别涉及一种显影工艺中的玻璃基板的水洗装置及方法。背景技术在薄膜晶体管-液晶显示器(thinfilmtransistor-liquidcrystaldisplay，简称TFT-LCD)的彩色滤光片(CF)显影工艺中，未经过曝光后的有机光刻胶和显影液反应后被冲洗掉，曝光的光刻胶固化留下掩膜(mask)上工艺制程所需的图案，在显影之后的玻璃基板往往还需要进行清洗，以便去除显影后的药液残留和异物(particle)，如果清洗工艺出现问题的话，会直接导致各类微观和宏观缺陷的产生...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。