技术编号:11679482
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及感应耦合型等离子体处理装置等的等离子体处理装置。背景技术在液晶显示器等的平板显示器(FPD)的制造工序中,对FPD用玻璃基板通过例如等离子体蚀刻、等离子体灰化、等离子体成膜等的进行电路形成,作为进行这样的等离子体处理的装置能够使用感应耦合型等离子体处理装置(ICP处理装置)。ICP处理装置包括对FPD用玻璃基板进行等离子体处理的腔室、高频天线和向腔室内供给处理气体的气体供给部件。在腔室内的下部配置载置FPD用玻璃基板的载置台,在腔室内的上部以与载置台的基板载置面相对的方式配置由电介质体...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。