技术编号:11799396
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种双硅源导向的中空和夹心中空二氧化硅介孔材料及其合成方法。背景技术中空介孔氧化硅纳米材料因其优异的性质如低的密度、高的比表面、可调的孔径以及良好的生物相容性等而被广泛应用于催化、药物传输和荧光标记等领域。相较于传统的中空材料,夹心中空氧化硅作为一类特殊的介孔材料,具有内核粒径可调、空腔大小可控、内核还可做成功能化金属或氧化物(如金或氧化铁等)等显著优点,这极大的提升了中空氧化硅介孔纳米材料的应用空间。为此,人们开发了一系列制备技术来合成中空及夹心中空氧化硅纳米材料,如已被广泛应用的硬...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。