技术编号：11819752
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及到纳米结构制备结合后续湿化学修饰技术，属于利用氧化铝模板限域电化学合成结合后续湿化学修饰技术。背景技术目前合成氢氧化钴的方法一般为水热法、液相溶剂法、沉淀法等，但上述工艺过程需要表面活性剂、络合剂等有机溶剂，制备工艺不但复杂，而且还可能掺杂异类元素，以及合成过程中需严格控制反应温度、时间及溶剂配比等，过程繁琐且不易控制形貌。现有电化学方法可在氧化铝模板内沉积纳米管和纳米线，参考前期科学家的电化学合成技术(D.C.Yang,G.W.Meng,S.Y.Zhang,Y.F.Hao,X.H.A...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。