技术编号：12040395
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光刻设备领域，更具体地，涉及一种曝光机及其操作方法。背景技术在显示产品(例如，液晶显示器)的生产制造过程中，利用曝光机对基板进行曝光是必不可少的工序，而目前所使用的曝光机多为接近式曝光机，图1示出了接近式曝光机的主要结构的示意图，该接近式曝光机可包括掩膜版1和玻璃基板2。接近式光刻机的掩膜版1与基板2之间存在一个微小的曝光间隙(在图1的示例中，该曝光间隙的数值为150～400μm左右)，然后通过平行光(UV)的照射在该曝光间隙中进行曝光，如此一来，可以有效避免掩膜版与基板直接接触(例如...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。