技术编号:12194598
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种荧光分析系统,尤其是涉及一种全反射X射线荧光分析系统。背景技术传统的全反射X射线荧光分析技术通常选配单一的X射线管作为激发源,而单一的X射线管由于靶材与工作电压特定,工作时所产生的X射线的特征谱线是固定的。例如,采用Ag靶材的X射线管在25kV电压下工作时产生的X射线包含Ag元素的L系谱线和连续谱,而采用W靶材的X射线管在25kV电压下工作时产生的X射线包含W元素的L系谱线和连续谱。可见,单一的X射线管适合一部分元素的检测分析,而对另一些元素的检测分析带来困难,比如靶材工作时产...
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