技术编号：12285832
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于控制流体从井孔向井管结构中和/或从井管结构向井孔中的流动的井下流动控制装置。此外，本发明涉及一种井下系统。背景技术当阀、压裂端口和入流控制装置布置作为井下井管结构的一部分时，经常发生的情况是，水垢和杂物不断地沉积在所述阀、端口和装置的开口中。特别地，这在井管结构的内部发生，导致开口中的流动面积降低并且在一些情况下甚至导致流动停止，致使所述阀、端口和装置不能正常起作用。此外，随着水垢和杂物在阀、端口和入流控制装置的开口中不断沉积，可能会损坏布置成与开口连接的密封元件，并且甚至在希...
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