技术编号：12458210
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于六方氮化硼及其杂化结构制备技术领域，具体涉及一种等离子体增强化学气相沉积法制备六方氮化硼及其杂化结构的方法。背景技术六方氮化硼与石墨具有类似的层状结构，因此又被称为“白石墨”，其层与层之间存在有弱的范德华力相互作用。六方氮化硼是一种宽禁带的绝缘材料，禁带宽度为~5.9eV，有较高的热导率、机械强度和化学稳定性。其具有的原子级平整度和厚度使其成为场效应晶体管和隧穿器件中的理想介电材料。而六方氮化硼的杂化结构，像六方碳硼氮（h-BNC），则具有半导体材料的性质，并且还可以通过对生长时间的调...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。