技术编号：12550886
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体领域，尤其涉及一种钨钛管靶的制造方法。背景技术近年来，随着溅射靶材和溅射技术的日益发展，溅射靶材在溅射技术中起到了越来越重要的作用，溅射靶材的质量直接影响到了溅射后的成膜质量。溅射靶材主要分为平面靶材和管靶，所述管靶通常由溅射靶材和背管组成，与平面靶相比，管靶的利用率更高且溅射后成膜质量更好，在靶材市场具有巨大的发展潜力。钨钛靶材是一种比较典型的合金靶材，钨钛合金具有低电阻系数，良好的热稳定性和抗氧化性；同时，304不锈钢具有耐高温800℃，加工性能好，韧性高的特点，因此以钨、钛...
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