技术编号:12608231
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种杂质处理工艺,尤其是一种高纯度二氧化硅中去除氯离子的方法。背景技术高纯度二氧化硅在工业中有着重要的应用价值,可用于制备光导纤维、精密的光学仪器、电子元件的载体等,也可以生产石英玻璃。现阶段,合成高纯二氧化硅,通常采用硅酸钠与硝酸合成来完成:Na2SiO3+2HNO3=2NaNO3+H2SiO3;H2SiO3+SiO2+H2O在合成中硅酸钠及硝酸都会夹带微量氯离子,氯离子在合成中被硅酸富集吸附,导致后处理非常困难,合成高纯二氧化硅过程中需要用大量热纯水反复洗涤,能耗和工时巨大。因此,...
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