技术编号：13143001
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及含锂材料的处理。更确切地说，本发明涉及一种用于处理含锂材料并产生氢氧化锂和/或碳酸锂的方法，其中HCl喷射用作杂质去除步骤。所述方法利用氯化锂溶液的电解。在一种形式中，本发明的方法旨在提供高纯度或电池级氢氧化锂和碳酸锂产物。本发明的方法还可提供盐酸产物。另外，在一种形式中，本发明的方法利用含有贵金属的混合型金属氧化物(MMO)电极提高所述方法的电化学部分的效率。更进一步地，当与其它杂质去除方法相比时，使用HCl喷射作为杂质去除步骤被认为提供益处。背景技术由含锂矿或精矿产生碳酸锂的已知方...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。