技术编号：13223408
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体设备领域，具体为一种晶圆氧化用高温扩散炉管。背景技术扩散炉管是半导体器件制造过程中用于对硅片进行扩散、氧化及烧结等工艺的一种热加工设备。主要反应装置一般分为水平式和直立式两种，半导体材料在高纯净的反应腔内进行高温反应，此过程一般需要通入不同种类的气体或对腔体进行抽真空处理。整个生产过程需要操作、生产设备需要纯净、轻便、耐高温，现有的晶圆氧化炉一般为直通式进气口，而且只设置一个，虽然设置气体调节阀，但是气体进入炉管后，呈不均匀性分布，容易造成晶圆表面氧化不均匀，影响晶圆质量。发明内...
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