一种基于纳米压印制备光学超构表面的方法与流程技术资料下载

技术编号:13392565

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技术领域本发明涉及微纳加工领域,尤其涉及光学超构表面的制备。背景技术光学超构材料是由人工设计构建而成的光学结构材料,其中的超构单元能够让光以一种在天然材料中不可能实现的方式来进行传播。我们可以通过调控超构单元的构成材料和几何形状,来设计超构材料的线性光学参数,比如说有效介电常数,磁导率,折射率,等等。通过这种方式,超构单元的电磁响应就不再限制于自身的化学组分了。通过合理地设计光学超构材料,我们可以实现一些奇特的光学物理现象,比如说负折射、超分辨率成像和光学隐身等。但是,由于三维超构材料在纳米加工...
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