技术编号:13440712
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。于外延生长之前预清洁基板表面的方法和设备本申请是申请日为2014年7月22日申请的申请号为201480043644.7,并且发明名称为“于外延生长之前预清洁基板表面的方法和设备”的发明专利申请的分案申请。技术领域本发明的实施方式大体涉及从基板表面移除污染物和氧化物的方法和设备。背景技术集成电路形成于硅和其他半导体基板中以及形成于硅和其他半导体基板上。在单晶硅的情形中,通过从熔融硅的浴(bath)生成锭并接着将固化的锭切成多个晶片来制造基板。接着可在单晶硅晶片上形成外延硅层以形成可为掺杂的或未掺杂...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。