技术编号:13613780
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本说明书涉及折射静校正领域,特别涉及一种道集记录处理方法、装置及存储介质。
背景技术
目前,基于初至的静校正技术应用越来越广泛,其中折射静校正的计算、折射波剩余静校正的计算,折射层析静校正的计算等技术方法均需要选取合适的折射层偏移距范围来进行有关的分析和计算,而在选择合适的折射层偏移距范围时必须确保折射波来自同一折射层,通过较为稳定的折射层时距图来选择,因此,确定折射层偏移距范围必须确定近地表结构的折射层。
根据折射原理,只有当下伏地层速度大于上覆地层速...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。